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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0584073 (1984-02-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 1 |
A vertical reactor for chemical vapor deposition having an H1/D1 ratio in the range of 1.10 to 1.40, where H1 is the height of the reactor bell jar enclosure above the susceptor and D1 is the diameter of the susceptor. Reactor performance is further improved by extending the outermost coil of the in
A bell jar enclosure and a susceptor for a chemical vapor deposition reactor, said susceptor arranged perpendicularly to a center line of said bell jar enclosure, and said enclosure and susceptor having a H1/D1 ratio in the range of 1.10-1.40 where H1 is the height of said enclosure above said susce
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