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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0769557 (1985-08-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 39 인용 특허 : 6 |
A process for the reductive deposition of polyoxometallate complexes on supports. The process includes the steps of forming a solution of at least one polyoxometallate compound in a solvent, said compound having the formula Aa(LlMmJzOy), adding a quantity of a support material having electronic cond
A process for the reductive deposition of polyoxometallate complexes on supports comprising the steps of: forming a solution of at least one polyoxometallate compound in a solvent, said compound having the formula Aa(LlMmJzOy) wherein A is at least one ion selected from the group consisting of hydro
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