[특허]Optical system for focus correction for a lithographic tool

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Optical system for focus correction for a lithographic tool 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01B-011/27
출원번호	US-0727644 (1985-04-26)
발명자 / 주소	Juliana Jr. Anthony (San Jose CA) Latta Milton R. (San Jose CA) Sincerbox Glenn V. (San Jose CA) Willson Carlton G. (San Jose CA)
출원인 / 주소	International Business Machines Corporation (Armonk NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 9

초록 ▼

An apparatus and process for determining focus correction for a lithographic tool are provided. A periodic surface relief structure containing focus information is illuminated so that diffraction beams are generated. An object is translated orthogonally to the periodic structure to cause a change in the intensity of the diffracted beams. Focus correction is determined based upon the changes in the intensity of the diffracted beams.

대표청구항 ▼

An optical system apparatus for focus correction for a lithographic tool, said apparatus comprising: (1) means for illuminating a periodic surface relief structure containing focus information which is on an object created in said lithographic tool, so that diffraction beams are generated, (2) means for translating the object orthogonally to the periodic structure, to cause a change in the intensity of the diffracted beams, (3) means for detecting the intensity of said diffracted beams, and (4) means for determining the focus correction based upon the changes in the intensity of the diffracted beams.

이 특허에 인용된 특허 (9)

Cassidy Lawrence W. (New Milford CT) Everhart Douglas R. (Danbury CT), Attitude transfer system.
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Stauffer Norman L. (Englewood CO), Auto-focus camera with solid state range finder.
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Okada Masashi (Yotsukaido JPX) Akiyama Yuji (Kawasaki JPX) Kawada Takaharu (Kawasaki JPX) Kawahara Atsushi (Tokyo JPX), Automatic focus adjusting device.
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Fukuoka Kenji (Fussa JPX), Automatic focusing devices.
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Wolbarsht Mryon L. (1435 Acadia St. Durham NC 27701), Method and apparatus for detecting the focusing condition of an optical system.
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Lietar Christian (Morges CHX) Jeannin Pierre (Morges CHX), Method and devices for localizing flat chips on a carrier plate.
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Hayashi Asao (Hachioji JPX) Oinoue Kenichi (Tokyo JPX) Aoki Masahiro (Tokyo JPX) Nakamura Junichi (Hachioji JPX) Ida Masatoshi (Hachioji JPX), Method of automatically adjusting focus conditions.
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Kleinknecht Hans P. (Bergdietikon NJ CHX) Bsenberg Wolfram A. (Monmouth Junction NJ), Photomask alignment system.
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Phillips Edward H. (P.O. Box 1042 Middletown CA 95461), Step-and-repeat alignment and exposure system.
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Takatori, Sunao; Kiyomatsu, Hisanori, Authentication managing apparatus, and shop communication terminal.
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Miyashita, Tomoyuki, Calculation method and apparatus of exposure condition, and exposure apparatus.
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Littau,Michael E.; Raymond,Christopher J., Determination of center of focus by cross-section analysis.
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Uchiyama, Kaoru, Focus inspection device and focusing method.
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Van Setten, Eelco; Davydova, Natalia Viktorovna; Psara, Eleni; Van Oosten, Anton Bernhard, Method of characterizing, method of forming a model, method of simulating, mask manufacturing method and device manufacturing method.
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Hofmans, Gerardus Carolus Johannus; Geraets, Hubertus Antonius; Zellenrath, Mark; Magnusson, Sven Gunnar Krister, Method of measuring focus of a lithographic projection apparatus.
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Buer, Mark; Frank, Ed, System and method for authentication via a proximate device.
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Buer, Mark; Frank, Ed, System and method for securing data from a remote input device.
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Hubbard Walter Bryan ; Kirk Rosanna, System for monitoring optical properties of photolithography equipment.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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