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Displacement device, particularly for the photolithographic treatment of a substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-011/27
  • G01B-009/02
출원번호 US-0838894 (1986-03-11)
우선권정보 NL-0004450 (1982-11-17)
발명자 / 주소
  • Wittekoek Stefan (Eindhoven NLX) Bouwer Adrianus G. (Eindhoven NLX)
출원인 / 주소
  • U.S. Philips Corporation (New York NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 5

초록

A displacement device, particularly useful in an apparatus for the photolithographic treatment of a substrate, is provided with a holder placed on a carriage mechanism being acted upon by driving members for imparting translational and rotary movements to the holder. The carriage is constituted by a

대표청구항

A displacement device for use in an apparatus for photolithographic treatment of a substrate, said device comprising a lower support part and an upper carriage part, said parts having flat surfaces facing each other, a first linear driving member having a first housing and first driving element mean

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Gale Michael T. (Wettswil CHX) Knop Karl H. (Zurich CHX), Dynamic accuracy X-Y positioning table for use in a high precision light-spot writing system.
  2. Phillips Edward H. (Mountain View CA), Interferometrically controlled stage with precisely orthogonal axes of motion.
  3. Spence-Bate Harry A. H. (Morley AUX) Bain-Smith Timothy (Charing GB2), Transport and positioning mechanism.
  4. Phillips Edward H. (Mountain View CA), Two-stage wafer prealignment system for an optical alignment and exposure machine.
  5. Webster Ronald B. (Melrose CT) Carulli Vincent J. (Warehouse Point CT) Wood Kenneth O. (Hebron CT), Work locating system and method with temperature and other compensation capabilities.

이 특허를 인용한 특허 (18)

  1. Hiranaga,Hajime; Hoshino,Tatsuya, Filters.
  2. Hiranga,Hajime; Hoshino,Tatauya; Hiromichi,Itoh, Filtration systems and fitting arrangements for filtration systems.
  3. Gaunekar, Ajit; Widdowson, Gary Peter, Gantry positioning system.
  4. Jung, Thomas E.; Marrinan, Thomas E.; De Jouy, Come Rene-Bazin, Gantry robot system.
  5. Andrew J. Hazelton ; Bausan Yuan, Guideless stage.
  6. Van Den Brink Marinus A.,NLX, Method of and device for repetitively imaging a mask pattern on a substrate using five measuring axes.
  7. Kwan, Yim Bun P.; Wetzels, Serge F. C. L.; Veldhuis, Gerjan P., Positioning system for use in lithographic apparatus.
  8. Kwan, Yim Bun P.; Wetzels, Serge F. C. L.; Veldhuis, Gerjan P., Positioning system for use in lithographic apparatus.
  9. Inoue Mitsuru,JPX ; Yamazaki Toshiaki,JPX, Scanning exposure apparatus and device fabrication method in which multiple laser interferometers use a respective laser head.
  10. Binnard, Michael; Novak, W. Thomas; Ueta, Toshio; Yuan, Bausan, Stage counter mass system.
  11. Inoue Mitsuru,JPX ; Korenaga Nobushige,JPX ; Tokuda Yukio,JPX, Stage system and exposure apparatus, and device manufacturing method using the same.
  12. Miyajima Yoshikazu,JPX ; Tokuda Yukio,JPX, Stage system for exposure apparatus.
  13. Blaesing Bangert,Carola; Kaczynski,Ulrich, Substrate holder, and use of the substrate holder in a highly accurate measuring instrument.
  14. Blaesing-Bangert, Carola; Kaczynski, Ulrich, Substrate holder, and use of the substrate holder in a highly accurate measuring instrument.
  15. Shibuta, Makoto; Yoshida, Yuichi; Takaiwa, Hiroaki, Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method.
  16. Shibuta, Makoto; Yoshida, Yuichi; Takaiwa, Hiroaki, Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method.
  17. Shibazaki, Yuichi, Substrate holding unit, exposure apparatus having same, exposure method, method for producing device, and liquid repellant plate.
  18. Lewis,George C.; Krokar,Zelimir, System and method for positioning an object through use of a rotating laser metrology system.
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