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Cleaning method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-007/00
출원번호 US-0631722 (1984-07-17)
우선권정보 JP-0161139 (1983-09-01); JP-0178784 (1983-09-27)
발명자 / 주소
  • Ichinoseki Tsuyoshi ((Yoshizawa Jutaku E-206) No. 844-2
  • Yoshizawa-cho Mito-shi
  • Ibaragi-ken JPX) Kato Hirobumi ((Hyakujuen Jutaku D-302) No. 2617-2
  • Motoyoshida-cho Mito-shi
  • Ibaragi-ken JPX) Mi
인용정보 피인용 횟수 : 41  인용 특허 : 1

초록

Dry-ice particles are blasted against an object to be cleaned under the presence of ice particles, whereby drawbacks in the case of blasting the dry-ice particles alone can be eliminated.

대표청구항

A cleaning method comprising: blasting a mixture of abrasive dry-ice particles and abrasive ice particles against an object to be cleaned.

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Easton ; Neil, Wet abrasion blasting.
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이 특허를 인용한 특허 (41)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
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  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
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  3. Whitlock Walter H. (Peapack NJ) Weltmer ; Jr. William R. (Murray Hill NJ) Clark James D. (Mountainside NJ), Apparatus and method for removing minute particles from a substrate.
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  4. Bran,Mario E., Apparatus for megasonic processing of an article.
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  5. Manificat, Andre, Apparatus for storing and transporting ice balls, without any sticking thereof, from their place of production to their place of use, where they are projected onto a target.
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  6. Kelsall Thomas W. (Bradford GB2), Blast cleaning.
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  7. Lehnig, Tony R., Blast media fragmenter.
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  8. Broecker, Richard, Blast nozzle with blast media fragmenter.
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  9. Olevitch Albert (Englewood OH), Cryogenic mechanical means of paint removal.
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  10. Sergio, Joseph P.; Sergio, Anthony P.; Scott, Alan C., Dry ice and abbrasive blasting media apparatus and method.
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  11. Okazawa, Masaki; Iwama, Hideo, Dry ice cleaning method, dry ice cleaning apparatus, and part or unit cleaned by dry ice.
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  12. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
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  13. Niechcial Roman, Ice blasting cleaning system.
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  14. Niechcial Roman, Ice blasting cleaning system and method.
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  15. Tada Masuo (Yao JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX) Ohmori Toshiaki (Itami JPX), Ice particle forming and blasting device.
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  16. Visaisouk, Sam, Method and apparatus for pressure-driven ice blasting.
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  17. Buiguez Alexandre (Aubagne FRX) Gibot Claude (Malakoff FRX), Method and apparatus for the treatment of work pieces by shot blasting.
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  18. Rosengren, Anders; Ivars, Roland; von der Burg, Lennart, Method and device for removing radioactive deposits.
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  19. Bran, Mario E., Method for megasonic processing of an article.
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  20. Charles W. Bowers, Method for selective metal film layer removal using carbon dioxide jet spray.
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  21. Bran,Mario E., Method of cleaning a side of a thin flat substrate by applying sonic energy to the opposite side of the substrate.
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  22. Bran, Mario E., Method of manufacturing integrated circuit devices.
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  23. Torii Kouji,JPX, Method of planarizing interlayer dielectric.
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  24. Boggs, Arlie Mitchell, Methods for cleaning tubulars using solid carbon dioxide.
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  25. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
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  26. Tada Masuo (Yao JPX) Hata Takeki (Kobe JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX) Ohmori Toshiaki (Itami JPX), Processing apparatus for semiconductor wafers.
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  27. Tada Masuo (Yao JPX) Hata Takeki (Kobe JPX) Fukumoto Takaaki (Itami JPX) Ohmori Toshiaki (Itami JPX), Processing apparatus for semiconductor wafers.
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  28. Tada, Masuo; Hata, Takeki; Fukumoto, Takaaki; Ohmori, Toshiaki, Processing method for semiconductor wafers.
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  29. Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Kunkel Pamela A. ; Weygand James F. ; Thomes Gregory P., Rotatable and translatable spray nozzle.
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  30. Benson, Ronald C., System and method for managing and maintaining abrasive blasting machines.
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  31. Bran, Mario E., System for megasonic processing of an article.
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  32. Cates Michael C. ; Hamm Richard R. ; Hoogerwerl John D. ; Lewis Michael W. ; Schmitz Wayne N., System for removing a coating from a substrate.
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  33. Bran,Mario E., Transducer assembly for megasonic processing of an article and apparatus utilizing the same.
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  34. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
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  35. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
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  36. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
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  37. Bran Mario E., Wafer cleaning method.
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  38. Levi Mark W. (Utica NY), Wafer cleaning method.
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  39. Mario E. Bran, Wafer cleaning method.
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  40. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
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  41. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
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