최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0808879 (1985-12-13) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 2 |
A process is disclosed for manufacturing a circuit board having a metal layer in which a portion of the metal layer is removed by etching. A novel etch resist immersion tin composition is selectively applied to the metal layer to leave areas of coated and uncoated metal followed by etching the metal
A process for manufacturing a device having a metal surface in which a portion of said metal surface is removed by etching comprising selectively applying an etch resist immersion composition to said metal surface to leave areas of coated and uncoated metal followed by etching said metal not coated
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.