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특허 상세정보

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Automated single slice cassette load lock plasma reactor

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) H01L-021/306    B44C-001/22    C03C-015/00    C23F-001/02   
미국특허분류(USC) 156/345 ; 156/662
출원번호 US-0664448 (1984-10-24)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 5
초록
▼

A plasma etch system that processes one slice at a time is disclosed. The system is comprised of an entry loadlock, an exit loadlock, a main chamber, vacuum pumps, RF power supply, RF matching network, a heat exchanger, throttle valve and pressure control gas flow distribution and a microprocessor controller. A multiple slice cassette full of slices is housed in the entry load lock and after pumping to process pressure, a single slice at a time is moved by an articulated arm from the cassette through an isolation gate to the main process chamber. The sli...

대표
청구항
▼

An apparatus for the manufacturing of semiconductor devices from semiconductor wafers having a plurality of semiconductor circuit patterns on at least a first surface of the semiconductor wafer, the apparatus comprises: reacting means for providing a stream of reacting gases to react with the semiconductor wafer to create circuit elements according to the semiconductor circuit pattern thereby; handling means for handling the wafers and includes a chamber means for bringing the wafers into contact with the reacting gas, degassing means for degassing of a ...

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Hijikata Isamu (Tokyo JPX) Uehara Akira (Yokohama JPX) Nakane Hisashi (Kawasaki JPX). Apparatus for the treatment of semiconductor wafers by plasma reaction. USP1982034318767.
  2. Hajj John G. (Amesbury MA). Automatically loadable multifaceted electrode with load lock mechanism. USP1985074526670.
  3. Davies John T. (El Sobrante CA) Reichelderfer Richard F. (Castro Valley CA). Computer controlled system for processing semiconductor wafers. USP1982024313783.
  4. Kohman Wayne E. (Wilton CT) Maleri Joseph E. (Bridgeport CT). Load-lock vacuum chamber. USP1982074341582.
  5. Class Walter H. (Yonkers NY) Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) Hill Michael L. (New York NY) Hutt Marvin K. (Oakland NJ). Magnetically enhanced plasma process and apparatus. USP1983124422896.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 18

  1. Davis Cecil J. (Greenville TX) Wooldridge Timothy J. (Richardson TX) Carter Duane E. (Plano TX). Advanced vacuum processor. USP1989064842680.
  2. Albarede, Luc; Venugopal, Vijayakumar C. Arrangement for identifying uncontrolled events at the process module level and methods thereof. USP2013128618807.
  3. Huang, Chung Ho; Venugopal, Vijayakumar C.; Lam, Connie; Podlesnik, Dragan. Arrangement for identifying uncontrolled events at the process module level and methods thereof. USP2015038983631.
  4. Mikoshiba Nobuo,JPX ; Ohmi Tadahiro,JPX ; Tsubouchi Kazuo,JPX ; Masu Kazuya,JPX ; Suzuki Nobumasa,JPX. Chemical vapor deposition apparatus. USP1998095803974.
  5. Yokogawa, Ken'etsu; Miyake, Masatoshi. Heat treatment apparatus that performs defect repair annealing. USP2016029271341.
  6. Walde Michael (Rodenbach DEX) Zeidler Peter (Hanau DEX) Domroese Dirk (Bispingen-Behringen DEX). Installation for charging and discharging substrates out of a vacuum tank. USP1990034907526.
  7. Eyolfson, Mark; Hochhalter, Elton J.; Phillips, Joe Lee; Johnson, David R.; Frank, Peter S.. Method and apparatus for automated, in situ material detection using filtered fluoresced, reflected, or absorbed light. USP2004036704107.
  8. Eyolfson,Mark; Hochhalter,Elton J.; Phillips,Joe Lee; Johnson,David R.; Frank,Peter S.. Method and apparatus for automated, in situ material detection using filtered fluoresced, reflected, or absorbed light. USP2006097102737.
  9. Eyolfsou, Mark; Hochhalter, Elton J.; Phillips, Joe Lee; Johnson, David R.; Frank, Peter S.. Method and apparatus for automated, in situ material detection using filtered fluoresced, reflected, or absorbed light. USP2004126831734.
  10. Randhir P. S. Thakur. Method of forming a transistor gate. USP2002056383875.
  11. Albarede, Luc; Pape, Eric; Venugopal, Vijayakumar C; Choi, Brian D. Methods and apparatus for predictive preventive maintenance of processing chambers. USP2013068473089.
  12. Wang, Jiangxin; Perry, Andrew James; Venugopal, Vijayakumar C. Methods for constructing an optimal endpoint algorithm. USP2013098538572.
  13. Randhir P. S. Thakur. Methods to form electronic devices. USP2002086436847.
  14. Thakur, Randhir P. S.. Methods to form electronic devices. USP2003096620740.
  15. Thakur, Randhir P. S.. Methods to form electronic devices and methods to form a material over a semiconductive substrate. USP2003036528364.
  16. Thakur,Randhir P.S.. Methods to form electronic devices and methods to form a material over a semiconductive substrate. USP2007057217614.
  17. Tepolt Gary B.. Robotic wafer handler. USP1998055746565.
  18. Davis Cecil J. (Greenville TX) Matthews Robert (Plano TX) Hildenbrand Randall C. (Richardson TX). Semiconductor wafer transfer method and arm mechanism. USP1989034816116.

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