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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0577943 (1984-02-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 67 인용 특허 : 1 |
A deposited film is processed in a preselected pattern by discharging electric energy through the film across a gas dielectric. In a preferred embodiment, a voltage pulse chain is applied to a moving probe spaced a preselected distance from the film. The discharge either removes the film material ov
A method of selectively processing an existing inorganic film in a preselected pattern, comprising the steps of: providing a gaseous environment at a preselected location on the film; positioning electric probe means a preselected distance from the film at said location; applying an electric potenti
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