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Calibration system for the calibration of mass flow controllers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01F-025/00
  • G05D-007/00
  • G12B-013/00
출원번호 US-0842257 (1986-02-14)
우선권정보 FI-0002441 (1984-06-15)
국제출원번호 PCT/FI85/00053 (1985-06-14)
§371/§102 date 19860214 (19860214)
국제공개번호 WO-8600153 (1986-01-03)
발명자 / 주소
  • Kurki Jouko (Alkutie FIX) Sandvik rjan (Hulluksentie FIX) Nyrki-Mklin Tiina (Gresantie FIX)
출원인 / 주소
  • Oy Nokia AB (Helsinki FIX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 6

초록

A calibration system for the calibration of mass flow controllers of an apparatus used for a chemical vapor phase growth, comprising at least one mass flow meter for measuring the characteristics of the mass flow controllers and a computer for calculating correction coefficients for the different co

대표청구항

In a calibration system for the calibration of mass flow controllers of an apparatus used for a chemical vapor phase growth, said system including mass flow meters for measuring the mass flows through said mass flow controllers, and means for calculating and storing correction coefficients for the d

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Blair Richard F. (Fountain Valley CA) Beazley Ralph (Rancho Palos Verdes CA), Calibratable system for measuring fluid flow.
  2. Wilson ; Francis P. ; Purcell ; John E., Flow controller-flow sensor assembly for gas chromatographs and the like.
  3. Kompelien Arlon D. (South Richfield MN), Flow sensor with adjustable sensitivity.
  4. Boykin John C. (Dallas TX), Pipeline flow measurement proving system.
  5. Partus Fred P. (Cobbs County GA), Vapor delivery control system and method.
  6. McMenamin Joseph C. (Oceanside CA), Vapor mass flow control system.

이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Klees,Daniel; Coppa,David; Wesstrom,Ola, Calibration rig.
  2. Woodman Brian Wilder ; Hall John F., Corrosion analysis system and method.
  3. Nakada, Akiko; Mori, Yoji; Shiroyama, Naoya; Ito, Minoru, Gas flow monitoring system.
  4. Lowery, Patrick A.; Thordarson, Petur; Laragione, Robert, Mass flow meter systems and methods.
  5. Regimand Ali (Raleigh NC), Method and system for transferring calibration data between calibrated measurement instruments.
  6. Hsieh, Chung-Ju; Liao, Hsi-Wen; Liu, Kai-Hsin; Hou, Tsu-Kuang, Real-time detection mechanism with self-calibrated steps for the hardware baseline to detect the malfunction of liquid vaporization system in AMAT TEOS-based Dxz chamber.
  7. Hsieh,Chung Ju; Liao,Hsi Wen; Liu,Kai Hsin; Hou,Tsu Kuang, Real-time detection mechanism with self-calibrated steps for the hardware baseline to detect the malfunction of liquid vaporization system in AMAT TEOS-based Dxz chamber.
  8. Tison,Stuart A.; Lu,Shiliang, System and method for mass flow detection device calibration.
  9. Mark C. Easton, System for and method of monitoring the flow of semiconductor process gases from a gas delivery system.
  10. Hahn David T. (Longmont CO), Test apparatus for proving the performance of mass flow meters.
  11. Nurczyk Mark E. (Eastman WI) Johnson Tedd P. (La Crosse WI), Vav valve control with transducer tolerance compensation.
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