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Light-sensitive negative working composition with diazonium condensate, epoxy resin, and combination of polymers with ac 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-001/60
출원번호 US-0709249 (1985-03-07)
우선권정보 JP-0041874 (1984-03-07)
발명자 / 주소
  • Nagasawa Kohtaro (Tokyo JPX) Morikubo Kunio (Saitama JPX)
출원인 / 주소
  • Somar Corporation (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 7

초록

A light-sensitive composition is described, containing: (A) a light-sensitive diazo compound, (B) a combination of Polymer (B-1) and Polymer (B-2), and (C) an epoxy resin. Polymer (B-1) is a polymer having the structural units of the general formulae (i), (ii) and (iii). Polymer (B-2) is a polymer h

대표청구항

A negative-working light-sensitive composition consisting essentially of in admixture: (A) a light-sensitive diazo compound which is a salt of a 4-diazodiphenylamine/formaldehyde condensate; (B) a polymeric compound; and (C) an epoxy resin, wherein the polymeric compound (B) is a combination of Poly

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Mohr Dieter (Wiesbaden DEX) Riess Kurt (Wiesbaden DEX), Light-sensitive aqueous developable copying material and product by coating process thereof utilizing polysiloxane and a.
  2. Okishi Yoshio (Shizuoka JPX) Koike Akinobu (Shizuoka JPX) Miyano Shizuo (Shizuoka JPX), Light-sensitive lithographic printing plate and compositions therefore with multiple resins.
  3. Nagasawa Kohtaro (Tokyo JPX) Morikubo Kunio (Soka JPX) Satoh Tsutomu (Higashi Kurume JPX), Photocurable light-sensitive composition.
  4. Nagazawa Kohtaro (Minami Ooizumi JPX) Satoh Tsutomu (Kashiwa JPX) Morikubo Kunio (Souka JPX) Tanaka Fujio (Koshigaya JPX) Okuyama Masaki (Nagareyama JPX), Photohardenable materials.
  5. Kita ; Nobuyuki ; Narutomi ; Yasuhisa, Photosensitive composition.
  6. Kita Nobuyuki (Udawara JPX) Narutomi Yasuhisa (Udawara JPX), Photosensitive diazonium compound containing composition and article with b 상세보기
  • Duyal, Tulay; Walls, John E., Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography.
  • 이 특허를 인용한 특허 (5)

    1. Yoshimura, Takeshi; Maekawa, Tetsuya; Nakagawa, Takaharu; Urabe, Toyoyuki, Modified styrene-maleic acid copolymer and use thereof.
    2. You Seung-Jun,KRX ; Eam Eak-Cheol,KRX ; Kang Young-Jong,KRX ; Kim Chang-Wook,KRX ; Kang Gi-Wook,KRX ; Heo Eun-Ha,KRX, Photoresist solution for phosphor slurry applied to color cathode ray tube.
    3. Aoshima Keitaro (Shizuoka-ken JPX), Photosensitive composition.
    4. Choi Sang-jun,KRX ; Park Chun-geun,KRX ; Koh Young-bum,KRX, Photosensitive polymers and photoresist compositions containing the same.
    5. Jung,Jae chang, Top anti-reflective coating polymer, its preparation method and top anti-reflective coating composition comprising the same.
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