[특허]Manufacturing apparatus for semiconductor devices

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Manufacturing apparatus for semiconductor devices 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23F-001/02
출원번호	US-0798113 (1985-11-14)
우선권정보	JP-0238570 (1984-11-14)
발명자 / 주소	Okuhira Hidekazu (Kokubunji JPX) Wada Yasuo (Bunkyo JPX)
출원인 / 주소	Hitachi, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 2

초록 ▼

A semiconductor device manufacturing apparatus is disclosed which comprises a reaction chamber; at least one light source for radiating light to a wafer disposed in the reaction chamber and performing plural processes by the photo-assisted reactions; a gas introducing means for introducing gaseous reactants into the reaction chamber; a gas exhausting means for exhausting the interior of the reaction chamber; and a light source for removing by light irradiation undesirable gaseous constituents which adhered to the wafer and the chamber inner wall in the preceding step. Since undesirable gaseous constituents adhered to the wafer and thereabouts can be removed, it is possible to effect plural processes for the wafer in the same chamber.

대표청구항 ▼

A semiconductor device manufacturing apparatus comprising: a reaction chamber; a first light source means having at least one first light source for radiating light to a wafer disposed in said reaction chamber to induce photo-assisted reactions for performing a plurality of processes; a gas introducing means for introducing gaseous reactants into said reaction chamber; a gas exhausting means for exhausting the interior of said reaction chamber; and a second light source means for removing by light irradiation undesirable gaseous constituents which adhere to said wafer and an inner wall of said reaction chamber.

이 특허에 인용된 특허 (2)

Chen Lee (Poughkeepsie NY) Chuang Tung J. (Los Gatos CA) Mathad Gangadhara S. (Poughkeepsie NY), Laser induced dry chemical etching of metals.
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Swain David M. (Thousand Oaks CA), Method and apparatus for laser-stimulated vacuum deposition and annealing technique.
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이 특허를 인용한 특허 (11)

Kickel, Bernice L.; Smythe, III, John A., In-situ etch and pre-clean for high quality thin oxides.
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Adams, David P.; Fishgrab, Kira L.; Greth, Karl Douglas; Henry, Michael David; Stevens, Jeffrey; Hodges, V. Carter; Shul, Randy J.; Goeke, Ronald S.; Grubbs, Robert K.; Silverman, Scott, Lateral vias for connections to buried microconductors and methods thereof.
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Tsuo Simon (Lakewood CO) Langford Alison A. (Boulder CO), Method and apparatus for removing and preventing window deposition during photochemical vapor deposition (photo-CVD) pro.
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Fukuda Hisashi (Tokyo JPX), Method and device for cleaning substrates.
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Shemesh, Dror, Method and system for imaging a cross section of a specimen.
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Stinnett James A., Method for etching and cleaning a substrate.
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Epler, John E.; Chung, Harlan F.; Paoli, Thomas L., Method of in situ stoiciometric and geometrical photo induced modifications to compound thin films during epitaxial growth and applications thereof.
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Ishizaka, Tadahiro; Cerio, Jr., Frank M.; Faguet, Jacques, Method of light enhanced atomic layer deposition.
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Jeffery W. Butterbaugh ; Brent Schwab, Method of surface preparation.
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Chen, Haojiang; Papanu, James S.; Kawaguchi, Mark; Herchen, Harald; Hwang, Jeng H.; Jin, Guangxiang; Palagashvili, David, Substrate cleaning apparatus and method.
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Yamazaki Shunpei (Tokyo JPX) Urata Kazuo (Kanagawa JPX) Tashiro Mamoru (Tokyo JPX) Tanamura Yuji (Tokyo JPX) Imato Shinji (Kanagawa JPX), Thin film formation method.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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