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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0878093 (1986-06-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 10 |
The invention discloses an improved process for forming one or more metal strips on an integrated circuit structure by wet etching of a metal layer which comprises forming an intermediate layer over the integrated circuit structure; forming slots in the intermediate layer; forming a metal layer over
An improved process for forming one or more metal strips on an integrated circuit structure by wet etching of a metal layer which comprises: (a) forming an intermediate layer over said integrated circuit structure; (b) forming slots in said intermediate layer; (c) forming a metal layer of non-unifor
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