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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0900121 (1986-08-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 5 |
An apparatus is described for the continuous monitoring of a solution such as an electroless nickel plating bath, and the routine adjustment of the bath during use. The apparatus comprises a probe adapted to be placed directly into the plating tank, and controller for means for replenishing nickel i
An in-tank probe comprising (a) a light source and a light detector spaced apart from one another (b) a housing to contain the light source and detector and to eliminate extraneous light (c) means for removing entrained bubbles from a portion of an electroless plating bath while permitting the bath
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