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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0020111 (1987-02-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 85 인용 특허 : 3 |
Disclosed is a process for the reduction of oxygen content in tantalum and/or columbium-containing material comprising heating the material under a hydrogen atmosphere in the presence of an oxygen-active metal.
A process for the reduction of oxygen content in tantalum and/or columbium material comprising heating said material at a temperature ranging from about 900°to about 2400°C. (about 1173°to about 2673°K.) under a hydrogen-containing atmosphere in the presence of an oxygen-active metal selected from t
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