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Electro-optic measurement (network analysis) system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01R-027/00
출원번호 US-0021089 (1987-03-03)
발명자 / 주소
  • Nees John A. (Rochester NY) Mourou Gerard A. (Rochester NY) Jackson Todd A. (Rochester NY)
출원인 / 주소
  • University of Rochester (Rochester NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 0

초록

A measurement system using electro-optic sampling and operative in the time domain characterizes devices over a bandwidth extending to upper microwave frequencies (e.g., 100 GHz). The device under test is mounted to or integrated on a substrate of electro-optic semiconductor material and is connecte

대표청구항

A system for characterizing the properties of a device which comprises means for generating a pulse signal at a first location spaced from said device and propagating said signal towards said device where it is incident thereon and also away from said device, means for detecting said signal at secon

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Sanchez, Jorge, Apparatus and method for measurement for dynamic laser signals.
  2. Jonsson,Olafur H.; Thorgeirsson,Jon Thor; Sangster,Alan John, Apparatus and method for microwave determination of at least one physical parameter of a substance.
  3. Cuzin Marc (La Tronche FRX) Rossa Edouard (Gex FRX), Device and method to measure a short radiation pulse or an electric pulse.
  4. Jorge Sanchez, Electro-optic interface system and method of operation.
  5. Akishige Ito JP; Katsushi Ohta JP; Toshiyuki Yagi JP; Mitsuru Shinagawa JP; Tadao Nagatsuma JP; Junzo Yamada JP, Electro-optical probe for oscilloscope measuring signal waveform.
  6. Pfaff, Paul L., Holographic condition assessment system for a structure including a semiconductor material.
  7. Pfaff, Paul L., Method for optically testing semiconductor devices.
  8. Pfaff,Paul, Method for optically testing semiconductor devices.
  9. Pfaff, Paul; Russell, Kevin L., Method for testing a device under test including the interference of two beams.
  10. Pfaff, Paul L., Methods and processes for optical interferometric or holographic test in the development, evaluation, and manufacture of semiconductor and free-metal devices utilizing anisotropic and isotropic materials.
  11. Pfaff, Paul L., Methods for obtaining and analyzing digital interferometric data for computer testing and developing semiconductor and anisotropic devices and materials.
  12. Pfaff, Paul L., Methods for optically enhanced holographic interferometric testing for test and evaluation of semiconductor devices and materials.
  13. Pfaff, Paul L., Multiple beam transmission interferometric testing methods for the development and evaluation of subwavelength sized features within semiconductor and anisotropic devices.
  14. Pfaff, Paul L., Multiple optical wavelength interferometric testing methods for the development and evaluation of subwavelength sized features within semiconductor devices and materials, wafers, and monitoring all phases of development and manufacture.
  15. Pfaff,Paul; Mauck,Michael, Non-destructive testing system using a laser beam.
  16. Pfaff, Paul L., Optical to optical methods enhancing the sensitivity and resolution of ultraviolet, electron beam and ion beam devices.
  17. Pfaff, Paul L., Optically enhanced holographic interferometric testing methods for the development and evaluation of semiconductor devices, materials, wafers, and for monitoring all phases of development and manufacture.
  18. Rauscher Christen (Alexandria VA), Photoconductive circuit element pulse generator.
  19. Cole, Bryan Edward, Test system.
  20. Aoshima Shinichiro (Shizuoka JPX) Tsuchiya Yutaka (Shizuoka JPX), Voltage detector employing electro-optic material having a corner-cube shape.
  21. Pfaff,Paul; Russell,Kevin L., Voltage testing and measurement.
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