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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0881073 (1986-07-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 27 인용 특허 : 0 |
An apparatus for removing a photo-resist covering from a substrate employs fine solid CO2 particles that are impacted on the substrate at high velocity to cause abrading of the photo-resist covering in the absence of damage or contamination of the substrate.
An apparatus for removing a photo resist covering film by blowing fine solid CO2 particles against a covering film applied to a surface of a substrate, including a jet nozzle directly connected through a connecting pipe to a bomb containing liquefied carbonic acid gas and arranged to be directed tow
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