[특허]Optical shutter array and method for making

Optical shutter array and method for making 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B05D-005/06 G02B-006/10
출원번호	US-0914972 (1986-10-03)
우선권정보	JP-0221056 (1985-10-03); JP-0221058 (1985-10-03); JP-0221059 (1985-10-03)
발명자 / 주소	Iijima Toshio (Warabi JPX) Nozaki Nobuharu (Mimami-Ashigara JPX) Sunagawa Hiroshi (Minami-Ashigara JPX) Kawashiri Kazuhiro (Hachioji JPX)
출원인 / 주소	Fuji Photo Film Co., Ltd. (Kanagawa JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 24 인용 특허 : 0

초록 ▼

An optical shutter array comprising a transparent substrate of a material exhibiting an electrooptic effect having parallel channels and electrodes of a conductive resin composition disposed in the channels can be driven with a lower voltage while minimizing cross-talk. Contact pads on the channel electrodes facilitate wire bonding to the electrodes, and a transparent dielectric film covering the substrate surface prevents damage to the electrodes by air discharge and provides abrasion resistance. The use of an anisotropic conductive connector and a flexible printed wiring connector ensures simple positive wire connection.

대표청구항

An optical shutter array comprising a transparent substrate formed of a material exhibiting an electrooptic effect, said substrate being provided with at least two parallel extending channels, and electrodes of a conductive resin composition disposed in the channels.

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