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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0873069 (1986-06-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 51 인용 특허 : 3 |
A protective diffusion barrier for metalized mirror structures is provided by a layer or coating of silicon nitride which is a very dense, transparent, dielectric material that is impervious to water, alkali, and other impurities and corrosive substances that typically attack the metal layers of mir
A mirror, comprising: a substrate comprising glass; a first diffusion barrier comprising silicon nitride deposited on said substrate; and a reflective layer of metal deposited on said first silicon nitride diffusion barrier such that said first silicon nitride diffusion barrier is positioned between
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