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Modular article processing machine and method of article handling therein 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/00
출원번호 US-0588029 (1984-03-09)
발명자 / 주소
  • Zajac John (San Jose CA) Mirkovich Ninko T. (Novato CA) Rathmann Thomas M. (Rohnert Park CA) Lachenbruch Roger B. (Petaluma CA)
출원인 / 주소
  • Tegal Corporation (Petaluma CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 5

초록

Automated article processing, particularly semiconductor wafer processing, is accomplished in a modular article processing machine. The design of the machine allows easy reconfiguration between single and multiple processing station systems. Articles are handled according to a method which easily ac

대표청구항

A method of article handling, in an article processing machine of the type having an article holding station at an input end, an article holding station at an output end and at least two chambers in which said articles are processed, comprising the steps of: simultaneously transferring articles from

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Giammanco Rosario P. (Gloucester MA), Article delivery and transport apparatus for evacuated processing equipment.
  2. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
  3. Whelan Paul L. (Dallas TX), Material handling system and method for manufacturing line.
  4. Daly John K. (Scottsdale AZ) Terry Malvin D. (Phoenix AZ), Surface inspection system.
  5. Corville Richard E. (Alameda CA), Workpiece accumulating and transporting apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Hendrickson Ruth Ann ; Van der Meulen Peter F., Apparatus and method for transporting substrates.
  2. George Gregory ; Peery Tim ; Consentino Timothy ; Kuhnle Michael ; Wright Seth ; Ziegler James, Automatic modular wafer substrate handling device.
  3. Lee,Jae Chull; Berkstresser,David, Curved slit valve door with flexible coupling.
  4. Lee, Jae-Chull; Kurita, Shinichi; White, John M.; Anwar, Suhail, Decoupled chamber body.
  5. Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T., Double dual slot load lock chamber.
  6. Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T.; Hosokawa, Akihiro, Dual substrate loadlock process equipment.
  7. Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T.; Hosokawa, Akihiro, Dual substrate loadlock process equipment.
  8. Walde Michael (Rodenbach DEX) Zeidler Peter (Hanau DEX) Domroese Dirk (Bispingen-Behringen DEX), Installation for charging and discharging substrates out of a vacuum tank.
  9. Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T.; Tanase, Yoshiaki, Large area substrate transferring method for aligning with horizontal actuation of lever arm.
  10. Kurita,Shinichi; Blonigan,Wendell T.; Tanase,Yoshiaki, Load lock chamber for large area substrate processing system.
  11. Kurita,Shinichi; Blonigan,Wendell T., Load lock chamber having two dual slot regions.
  12. Lee, Jae-Chull; Anwar, Suhail; Kurita, Shinichi, Load lock chamber with decoupled slit valve door seal compartment.
  13. Kurita,Shinichi; Blonigan,Wendell T., Method for transferring substrates in a load lock chamber.
  14. Boitnott Charles A. ; Caughran James W. ; Egbert Steve, Modular process system.
  15. Heyder Roger V. ; Brezocsky Thomas B. ; Davenport Robert E., Multiple loadlock system.
  16. Roger V. Heyder ; Thomas B. Brezocsky ; Robert E. Davenport, Multiple loadlock system.
  17. Kurita, Shinichi; Anwar, Suhail; Lee, Jae-Chull, Multiple slot load lock chamber and method of operation.
  18. Yoo, Woo Sik, Plasma processing.
  19. Boitnott Charles A. ; Caughran James W. ; Egbert Steve, Semiconductor wafer processing carousel.
  20. Tanguay, Michael J., Throughput enhancement for single wafer reactor.
  21. Fukasawa Yoshio (Kofu JPX) Hosoda Shozo (Yamanashi-ken JPX) Nakagome Tatsuya (Yamanashi-ken JPX) Tozawa Takashi (Yamanashi-ken JPX) Suzuki Koji (Yamanashi-ken JPX) Ishihara Yasumasa (Kofu JPX) Aoyagi, Vacuum process apparatus and vacuum processing method.
  22. Kim, Sam Hyungsam; Lee, Jae-Chull; Sterling, William N.; Brown, Paul, Valve door with ball coupling.
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