최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0120569 (1987-11-10) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 7 |
A vertical III-V compound MESFET is provided. The MESFET has a buried P-type layer which separates the source and the drain regions. A small N-type region in the buried P layer connects the source channel to the drain area. This opening in the buried P layer is located underneath the Schottky gate.
A vertical III-V compound device having IIIV compound semiconductor substrate of a first conductivity; a first layer on the substrate of the first conductivity; a buried layer of a second conductivity having an opening therein and the opening being of the first conductivity; a second layer of the fi
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.