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Method for controlling plating on seeded surfaces 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05D-001/18
출원번호 US-0130590 (1987-12-08)
발명자 / 주소
  • Rickert Robert G. (Endwell NY)
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corp. (Armonk NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 9

초록

A method for preparing and maintaining an electroless plating bath. Seeded surfaces include a palladium and tin coating which receives plating from an electroless plating bath. The plating bath conditions are maintained by measuring the open circuit potential of the bath with a potentiostat. The che

대표청구항

A method for preparing an electroless plating bath for plating parts having a seeded surface, said bath comprising a plurality of chemical constituents, including air, which are controlled to achieve a desired plating condition comprising: measuring the open circuit potential of said bath Emix; adju

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Capwell Robert J. (Vestal NY) Kaschak Ronald A. (Vestal NY) McBride Donald G. (Binghamton NY) Rickert Robert G. (Johnson City NY) Seraphim Donald P. (Vestal NY), Copper plating.
  2. Alpaugh Warren A. (Chenango Forks NY) Zucconi Theodore D. (Endicott NY), Electroless copper plating process with dissolved oxygen maintained in bath.
  3. Capwell Robert J. (Vestal NY) Rickert Robert G. (Endwell NY), Electroless plating bath monitor.
  4. Fey Edmond O. (Vestal NY) Haselbauer Peter (Dettenhausen NY DEX) Jung Dae Y. (Endwell NY) Kaschak Ronald A. (Vestal NY) Kilthau Hans-Dieter (Rottenburg-Baisingen NY DEX) Magnuson Roy H. (Binghamton N, Electroless plating with bi-level control of dissolved oxygen.
  5. McBride Donald G. (Binghamton NY) Rickert Robert G. (Endwell NY), Method and apparatus for controlling the organic contamination level in an electroless plating bath.
  6. McBride Donald G. (Binghamton NY) Rickert Robert G. (Endwell NY), Method and apparatus for controlling the surface chemistry on objects plated in an electroless plating bath.
  7. Kaschak Ronald A. (Vestal NY) Magnuson Roy H. (Binghamton NY) Yarmchuk Edward J. (Purdys NY), Method for controlling plating rate in an electroless plating system.
  8. Canestaro, Michael J.; Kaschak, Ronald A.; McBride, Donald G.; Seraphim, Donald P., Method for plating from an electroless plating bath.
  9. Amelio William J. (Binghamton NY) Markovich Voya (Endwell NY) Sambucetti Carlos J. (Croton-on-Hudson NY) Trevitt Donna J. (Vestal NY), Process for determining the plating activity of an electroless plating bath.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Toyoda Hiroyuki (Ibaragi JPX) Shimazaki Takeshi (Ibaragi JPX), Apparatus for measuring deposition speed of electroless plating.
  2. Tsunekawa, Makoto, Electroless plating apparatus, method of electroless plating, and manufacturing method of printed circuit board.
  3. Angelopoulos Anastasios Peter ; Jones Gerald Walter ; Matienzo Luis Jesus ; Miller Thomas Richard ; Markovich Voya Rista, Method for reducing seed deposition in electroless plating.
  4. Angelopoulos Anastasios Peter ; Jones Gerald Walter ; Matienzo Luis Jesus ; Miller Thomas Richard ; Markovich Voya Rista, Method for reducing seed deposition in electroless plating.
  5. France, David W.; Lachmansingh, Clifton, Microwavable bag.
  6. France, David W.; Lachmansingh, Clifton, Microwavable bag.
  7. Gorman, Charles Thomas; France, David W.; Lachmansingh, Clifton; Warosh, Paul John; Greenwood, Donald L.; Walsh, Joseph C.; Lupfer, Nicholas P.; Culter, John Dougherty, Microwave cooking package.
  8. Gorman, Charles Thomas; France, David W.; Lachmansingh, Clifton; Warosh, Paul John, Microwave popcorn package.
  9. Gorman, Charles Thomas; Warosh, Paul John, Microwave popcorn package, methods and product.
  10. France, David W.; Gorman, Charles Thomas; Lachmansingh, Clifton; Warosh, Paul John; Swanlund, Steven P., Vent assembly for microwave cooking package.
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