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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0922907 (1986-10-24) |
우선권정보 | JP-0244433 (1985-10-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 49 인용 특허 : 0 |
A semiconductor device having an SOI structure comprises an insular single crystal silicon body formed on an insulator layer, a first region of a first type semiconductor and source and drain regions of a second type semiconductor provided in the insular single crystal silicon body so that the first
A semiconductor device having a silicon on insulator structure comprising: an insulator layer; an insular body formed on said insulator layer, said insular body being made of a single crystal silicon doped to a first type semiconductor; a first region of the first type semiconductor provided in said
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