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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0003521 (1987-01-15) |
우선권정보 | FR-0000563 (1986-01-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 6 |
An installation is provided for carrying out localized electrolytic surface treatment, of the type including an electrolyte reservoir (22) and pumping means (19) adapted for feeding the electrolyte to an anodic equipment (1) able to be placed in contact with the surface of the work piece (P) to be t
Installation for carrying out localized electrolytic surface treatment of a workpiece, of the type including an electrolyte reservoir (22) and pumping means (19) adapted for feeding the electrolyte to an anodic equipment (1) able to be placed in contact with a surface of said workpiece (P), a thin e
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