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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0145355 (1988-01-19) |
우선권정보 | JP-0010281 (1987-01-19); JP-0213372 (1987-08-26); JP-0213375 (1987-08-26); JP-0221538 (1987-09-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 62 인용 특허 : 3 |
A method of alignment between a mask and a semiconductor wafer is disclosed. At least one linear Fresnel zone plate lens is provided on the mask, and first and second reflecting gratings are provided one the semiconductor wafer. The first reflecting grating includes a plurality of concaves or convex
A method of alignment between a mask and a semiconductor wafer comprising steps of setting said semiconductor wafer on a stage, said semiconductor wafer including a first reflecting grating including a plurality of concaves or convexs arranged in a first direction with a constant pitch and a second
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