$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C25B-001/28
  • B01D-003/14
출원번호 US-0915776 (1986-10-06)
발명자 / 주소
  • Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones
  • Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua
출원인 / 주소
  • Athens Corporation (Oceanside CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 11

초록

A continuous process and apparatus for the repurification of ultrapure liquids. An oxidant solution comprising ultrapure sulfuric acid, peroxydisulfuric acid, and ultrapure water is continuously withdrawn from a process after use. The withdrawn oxidant is reprocessed continuously by contacting with

대표청구항

A process for the regeneration and repurification of ultrapure oxidant solution comprising ultrapure sulfuric acid, ultrapure peroxydisulfuric acid, and ultrapure water which is used in a chemical process utilizing said ultrapure oxidant solution comprising: withdrawing at least a portion of said ox

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Beyer Klaus D. (Poughkeepsie NY) Kastl Robert H. (Wappingers Falls NY), Cleaning process for p-type silicon surface.
  2. Coker Robert J. (Petrolia CAX) Bate Gary W. (Point Edward CAX) Deuzeman Henk J. (Watford CAX), Combined batch reactor system and continuous distillation apparatus.
  3. Janjua ; Mohammad Barakat Ilahi ; Claessens ; Pierre L. ; Loutfy ; Rao uf O., Method and apparatus for the oxidation of organic material present in concentrated sulfuric acid.
  4. Gluck Ronald M. (Rochester NY), Method for use in the manufacture of semiconductor devices.
  5. Colwell Darrel R. (Oklahoma City OK), Methods and apparatus for distilling a contaminated solvent.
  6. Lee Wai M. (Milpitas CA), Photoresist stripping composition and method.
  7. Basi ; Jagtar Singh, Post-polishing semiconductor surface cleaning process.
  8. Becker Hans (Munich DEX) Linde Gerhard (Grnwald DEX), Process and apparatus for distillation and/or stripping.
  9. Yoshida Mitsuo (Nobeoka JPX), Process for preparing nitrogen by ammonium nitrate decomposition.
  10. Schlegel Rainer (Hattersheim am Main DEX), Process for the purification of waste sulfuric acid containing fluoride.
  11. von Plessen Helmold (Kelkheim ; Taunus DT) Fischer Eberhard (Hofheim ; Taunus DT) Schiessler Siegfried (Frankfurt am Main DT), Process for the regeneration of sulfuric acid.

이 특허를 인용한 특허 (17)

  1. Tansy,Brian L., Ammonia reclamation system.
  2. Bexten Daniel P., Cross flow centrifugal processor.
  3. Wiederin, Daniel R.; Schultz, Austin, Dilution into a transfer line between valves for mass spectrometry.
  4. Dobson Jesse C. (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA), Distillation method and apparatus for reprocessing sulfuric acid.
  5. Watatsu, Haruru; Izuta, Nobuhiko; Yata, Hideo, Equipment and method for measuring silicon concentration in phosphoric acid solution.
  6. Dobson Jesse (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA), Hydrofluoric acid reprocessing for semiconductor standards.
  7. Clark R. Scot ; Baird Stephen S. ; Hoffman Joe G., Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids.
  8. Clark, R. Scot; Baird, Stephen S.; Hoffman, Joe G., Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids.
  9. Bexten Daniel P., Offset rotor flat media processor.
  10. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site ammonia purification for semiconductor manufacture.
  11. Joe G. Hoffman ; R. Scot Clark, On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF and ammonium fluoride.
  12. Xu Mindi ; Yuan Wallace I. ; Jacksier Tracey ; Wang Hwa-Chi ; Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site manufacture of ultra-high-purity nitric acid.
  13. Hasegawa, Yoshiki; Takeda, Naoki; Koizumi, Kazuhiro; Asano, Takamasa, Particle analyzing apparatus.
  14. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture.
  15. Miyazawa Ichiro,JPX, Semiconductor manufacture apparatus.
  16. Giannetti Patrick J., Spray gun cleaning apparatus.
  17. Kiyohito Koizumi JP; Hiroshi Osuda JP; Toru Matoba JP; Masataka Fukuizumi JP; Takayuki Sadakata JP, System and method for continuously reprocessing waste sulfuric acid liquid, and heater supporting structure for heating a vessel made of glass.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로