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Method and system for locating and positioning circular workpieces 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-007/31
출원번호 US-0048194 (1987-05-11)
발명자 / 주소
  • Spencer Robert M. (San Juan Capistrano CA) Lada Christopher O. (Palo Alto CA)
출원인 / 주소
  • Lam Research (Fremont CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 3

초록

A system for locating and positioning wafers includes a wafer shuttle, a spindle, and a position sensor. The wafer shuttle retrieves wafers from a storage location, typically a wafer cassette, and transports the wafers to the spindle. The wafers are then incrementally rotated on the spindle, and the

대표청구항

A system for positioning a circular workpiece, said system comprising: means for conveying the workpiece along a linear path; means for rotating the workpiece about a center of rotation located on the linear path; means for measuring the distance along the linear path between the center of rotation

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Siddall ; Graham John, Measuring apparatus.
  2. Asakura Kouichi (Tokyo JPX) Sagara Makoto (Shizuoka JPX), Method and apparatus for determining axes of cylindrical blanks.
  3. Siddall Graham John (Keyworth EN) Player Michael Antony (Aberdeen SC), Surface measurement instruments.

이 특허를 인용한 특허 (17)

  1. Degner, Raymond L.; Lenz, Eric H., Composite electrode for plasma processes.
  2. Lee,Kwang Woon; Lee,Jang Hyeok; Son,Wook Sung, Inspection system and a method for inspecting a semiconductor wafer.
  3. Mooring, Benjamin W., Method and apparatus for determining substrate offset using optimization techniques.
  4. Lu,Zhimin, Method and apparatus to correct water drift.
  5. Martinson, Robert; Shrivastava, Dhairya; Weis, Matthew, Method for active wafer centering using a single sensor.
  6. Ono Shuji,JPX ; Osawa Akira,JPX, Method for learning by a neural network including extracting a target object image for which learning operations are to be carried out.
  7. Ono, Shuji; Osawa, Akira, Method for recognizing object images and learning method for neural networks.
  8. Benjamin W. Mooring ; Charles W. Freund, Method of and apparatus for dynamic alignment of substrates.
  9. Mundt Randall S. (Pleasanton CA) Krieg Kenneth R. (Fremont CA), Particulate free vacuum compatible pinch seal.
  10. Takizawa, Masahiro; Suwada, Masaei, Position sensor system for substrate transfer robot.
  11. Raaijmakers, Ivo, Semiconductor wafer position shift measurement and correction.
  12. Raaijmakers,Ivo, Semiconductor wafer position shift measurement and correction.
  13. Kim, Se Yong; Kim, Woo Chan; Jung, Dong Rak, Thin film deposition apparatus and method of maintaining the same.
  14. Kim, Ki Jong; Kim, Dae Youn, Thin film deposition apparatus and method thereof.
  15. Landau Richard F. (Mountain View CA), Wafer orientation alignment system.
  16. Landau Richard F. ; Schultheis Edward D., Wafer orientation inspection system.
  17. Hellwig, Juergen; Goetz, Stefan, Wafer orientation sensor.
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