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Advanced vacuum processor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B44C-001/22
  • H01L-021/306
  • C03C-015/00
  • C03C-025/06
출원번호 US-0188633 (1988-05-02)
발명자 / 주소
  • Davis Cecil J. (Greenville TX) Wooldridge Timothy J. (Richardson TX) Carter Duane E. (Plano TX)
출원인 / 주소
  • Texas Instruments Incorporated (Dallas TX 02)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 3

초록

A complete integrated circuit processing module, wherein multiple processing stations, each with its own vacuum isolation, are located inside a single module which is held at hard vacuum. A wafer transport arm mechanism permits interchange of wafers among the processing stations and a load lock. The

대표청구항

A method for fabricating integrated circuits, comprising the steps of: providing a plurality of wafers in a vacuum sealable wafer carrier box; placing said wafer carrier box into a vacuum sealable load lock attached to a process module; pumping down said load lock to a hard vacuum; opening said wafe

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Davis Cecil J. (Greenville TX) Spencer John E. (Plano TX) Johnson Randall E. (Carrollton TX) Jucha Rhett B. (Celeste TX) Brown Frederick W. (Tarrant TX) Kohan Stanford P. (Garland TX), Automated single slice cassette load lock plasma reactor.
  2. Nakane Hisashi (Kawasaki JPX) Uehara Akira (Yokohama JPX) Miyazaki Shigekazu (Sagamihara JPX) Kiyota Hiroyuki (Hiratsuka JPX) Hijikata Isamu (Tokyo JPX), Automatic apparatus for continuous treatment of leaf materials with gas plasma.
  3. Warenback, Douglas H.; Rathmann, Thomas M.; Mirkovich, Ninko T., Plasma reactor chuck assembly.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Cook, Gregory; Chidlow, Craig; Ow, Rodney; Nugyen, Lang Van; Gomez, J. Rafael; Reyling, Steve; Aalund, Martin P.; Remis, Steven J., Apparatus and method for using a robot to remove a substrate carrier door.
  2. Masujima Sho,JPX ; Miyauchi Eisaku,JPX ; Miyajima Toshihiko,JPX ; Watanabe Hideaki,JPX, Clean transfer method and apparatus therefor.
  3. Masujima Sho,JPX ; Miyauchi Eisaku,JPX ; Miyajima Toshihiko,JPX ; Watanabe Hideaki,JPX, Clean transfer method and apparatus therefor.
  4. J?rgensen, Holger; Strauch, Gerhard Karl; K?ppeler, Johannes, Device for the deposition of crystalline layers on crystalline substrates.
  5. Irie, Nobuyuki; Ishimaru, Katsuaki, Exposure apparatus, microdevice, photomask, and exposure method.
  6. Elliott, Martin R.; Shah, Vinay, Methods and apparatus for mapping carrier contents.
  7. Ueda, Hideaki; Furukawa, Keiichi; Terasaka, Yoshihisa, Organic electroluminescent element and method of manufacturing same.
  8. Tepolt Gary B., Robotic wafer handler.
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