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Photosetting polymer composition 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C08F-002/50
  • C08F-255/10
  • C08F-267/04
  • C08F-271/02
출원번호 US-0108787 (1987-10-15)
우선권정보 JP-0244944 (1986-10-15)
발명자 / 주소
  • Nakano Tsunetomo (Ichihara JPX) Hayashi Toshikazu (Ichihara JPX) Tsukada Toshinori (Ichihara JPX)
출원인 / 주소
  • Ube Industries, Ltd. (Ube JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 7

초록

A photosetting polymer composition comprises: a base polymer comprising a denatured copolymer which is produced by reacting a copolymer of maleic anhydride and an unsaturated hydrocarbon compound with a specific aminocarboxylic acid, an alcohol or a cellosolve derivative, and a glycidyl (meth)acryla

대표청구항

A photosetting composition comprising: a base polymer comprising a base copolymer which is produced by reacting a starting copolymer of maleic anhydride and an unsaturated hydrocarbon compound, with a compound having the formula (I) and a compound having the formula (II): [Figure] (I) HOR2 (II) wher

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Baumann Niklaus (Marly CH) Zweifel Hans (Basel CH) Bauman Marcus (Basel CH) Waterhouse John S. (Cherry Hinton GB), Crosslinkable polymeric compounds.
  2. Lewis David F. (Monroe CT), Electron beam sensitive mixture resist.
  3. Lorenz Donald H. (Basking Ridge NJ) Williams Earl P. (Pen Argyl PA), Electron beam sensitive resist.
  4. Anderson Charles C. (Rochester NY) Kolterman Kristine M. (Rochester NY) Turner Sam R. (Pittsford NY), Negative-working polymers useful as X-ray or E-beam resists.
  5. McMullen Thomas B. (Webster NY), Overcoated electrostatographic photoreceptor.
  6. Minnema Lourens (Groenewoudseweg 1 Eindhoven NLX) van der Zande Johan M. (Groenewoudseweg 1 Eindhoven NLX), Photosensitive polyamic acid derivative, compound used in manufacture of derivative, method of manufacturing substrate h.
  7. Hammer Clarence Frederick (Wilmington DE) Sinclair Harold King (Louisville KY), Process for the preparation of graft copolymers.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Craun, Gary Pierce; Rademacher, Jude; Geelen, Patricia, Aqueous coating compositions including the reaction product of maleic anhydride with an unsaturated compound and an amine.
  2. Mitra Sumita B., Photocurable ionomer cement systems.
  3. Mitra Sumita B. (West St. Paul MN), Photocurable ionomer cement systems.
  4. Wakata Yuichi (Shizuoka JPX) Iwasaki Masayuki (Shizuoka JPX) Inoue Koji (Shizuoka JPX), Photopolymerizable composition, color filter, and production of color filter.
  5. Ichikawa Tatsuya,JPX ; Chiba Tatsuo,JPX, Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same.
  6. Ichikawa Tatsuya,JPX ; Chiba Tatsuo,JPX, Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same.
  7. Ichikawa, Tatsuya; Chiba, Tatsuo, Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same.
  8. Ichikawa Tatsuya,JPX ; Chiba Tatsuo,JPX, Photosensitive resin compositions and photosensitive element using the same.
  9. Kan Wen-Bing,JPX ; Tokida Akihiko,JPX ; Aramaki Kayo,JPX ; Tanaka Hatsuyuki,JPX ; Kimura Ken,JPX, Radiation absorbing polymer and synthesis thereof.
  10. Komatsu Nobuo (Kanagawa JPX) Kai Ikuyo (Tokyo JPX) Konishi Nami (Tokyo JPX) Iwasawa Naozumi (Kanagawa JPX) Furusawa Satoru (Kanagawa JPX), Water and acid developable photoresist composition exhibiting improved adhesion.
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