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Novel ceric oxide particulates and process of making 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01F-001/00
  • C01F-017/00
출원번호 US-0135380 (1987-12-21)
우선권정보 FR-0017805 (1986-12-19)
발명자 / 주소
  • David Claire (Paris FRX) Magnier Claude (Paris FRX) Latourrette Bertrand (Cernay FRX)
출원인 / 주소
  • Rhone-Poulenc Chimie (Courbevoie FRX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 5

초록

Morphologically improved ceric oxide particulates have a BET specific surface, measured after calcination at a temperature of from 350°to 450°C., of at least 100 m2/g, a total pore volume of at least 0.3 cm3/g, and the pores of which having a mean diameter larger than 50 Å. The improved ceric oxide

대표청구항

Ceric oxide particulates having a specific surface, after calcination at a temperature of from 350°to 450°C., of at least 100 m2/g, a total pore volume of at least 0.3 cm3/g, and the pores of which having a mean diameter larger than 50 Å. true cerium hydroxide thus produced, and washing and heat-tre

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Hafner Leo (Althofen OE), Method for producing a pure cerium oxide.
  2. Berard Michael F. (Ames IA) Hunter ; Jr. Orville (Ames IA) Shiers Loren E. (Ames IA) Dole Stephen L. (Burnt Hills NY) Scheidecker Ralph W. (Ames IA), Process for preparing active oxide powders.
  3. Gradeff Peter S. (Pottersville NJ) Schreiber Fred G. (Highland Park NJ) Charte Vincent J. (East Windsor NJ) Davison John F. (Edison NJ), Process for preparing colloidal ceric oxide and complexes thereof with free organic acids.
  4. Gradeff, Peter S.; Charte, Vincent J.; Schreiber, Fred G.; Davison, John F., Process for preparing colloidal ceric oxide and complexes thereof with free organic acids.
  5. Chane-Ching Jean-Yves (Paris FRX) Dumousseau Jean-Yves (Paris FRX), Process for producing cerium oxide particulates.

이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Burba, III, John L.; Hassler, Carl R.; O'Kelley, C. Brock; Lupo, Joseph A.; Pascoe, Joseph R., Apparatus for treating a flow of an aqueous solution containing arsenic.
  2. Addiego, William Peter, Catalysts on substrates and methods for providing the same.
  3. Addiego, William Peter, Catalysts on substrates and methods for providing the same.
  4. Le Loarer Jean-Luc,FRX ; Picard Francoise,FRX ; David Claire,FRX, Ceric oxide particulates having improved morphology.
  5. Le Loarer Jean-Luc (La Rochelle FRX), Ceric oxide with new morphological characteristics and method for obtaining same.
  6. Burba, John, Composition and process for making the composition.
  7. Bonneau Lionel,FRX ; Pijolat Michele,FRX ; Touret Olivier,FRX, Composition based on ceric oxide, preparation and use.
  8. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Composition for removing arsenic from aqueous streams.
  9. Burba, III, John L., Composition for treating a fluid.
  10. Wang,Feng Yun; Cheng,Soofin, Method for preparing pure, thermally stable and high surface area ceria.
  11. Schweizer,Albert E.; Jones,Mark E.; Hickman,Daniel A., Oxidative halogenation and optional dehydrogenation of c3+hydrocarbons.
  12. Gulotty, Jr., Robert J.; Jones, Mark E.; Hickman, Daniel A., Oxyhalogenation process using catalyst having porous rare earth halide support.
  13. Gulotty, Jr., Robert J.; Jones, Mark E.; Hickman, Daniel A., Oxyhalogenation process using catalyst having porous rare earth halide support.
  14. Burba, III, John L.; Oriard, Tim L., Process and apparatus for treating a gas containing a contaminant.
  15. Le Loarer Jean-Luc (La Rochelle FRX), Process for obtaining a ceric oxide.
  16. Le Loarer Jean-Luc (La Rochelle FRX), Process for obtaining ceric oxide.
  17. David Claire (Paris FRX) Seon Francoise (Montreuil FRX), Process for producing morphologically improved ceric oxide particulates.
  18. Jones, Mark E.; Olken, Michael M.; Hickman, Daniel A., Process for the conversion of ethylene to vinyl chloride and novel catalyst compositions useful for such process.
  19. Hickman, Daniel A.; Henley, John P.; Jones, Mark E.; Marshall, Kenric A.; Reed, Daniel J.; Clarke, William D.; Olken, Michael M.; Walko, Lee E., Process for vinyl chloride manufacture from ethane and ethylene with immediate HCl recovery from reactor effluent.
  20. Henley, John P.; Jones, Mark E.; Hickman, Daniel A.; Marshall, Kenric A.; Reed, Daniel J.; Clarke, William D.; Olken, Michael M.; Walko, Lee E., Process for vinyl chloride manufacture from ethane and ethylene with partial CHl recovery from reactor effluent.
  21. Cable, Robert; Hassler, Carl; Burba, John, Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species.
  22. Psaras, Dimitrios; Gao, Yuan; Haneline, Mason; Lupo, Joseph; Landi, Carol, Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions.
  23. Fisher, Janet Mary; Rajaram, Raj Rao; Thompsett, David; Collier, Jillian Elaine, Selective catalytic reduction processes using doped cerias.
  24. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Water purification device for arsenic removal.
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