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특허 상세정보

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Apparatus and method for production process diagnosis using dynamic time warping

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) H01L-021/306    B44C-001/22    C03C-015/00    C03C-025/06   
미국특허분류(USC) 156/626 ; 156/643 ; 156/646 ; 156/345
출원번호 US-0233878 (1988-08-15)
발명자 / 주소
  • Flinchbaugh Bruce E. (Dallas TX) Dolins Steven B. (Dallas TX) Srivastava Aditya (Richardson TX) Reese Jon (Waxahachie TX)
출원인 / 주소
  • Texas Instruments Incorporated (Dallas TX 02)
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 3
초록
▼

Operations of a plasma etch reactor (10l ) are monitored to detect aberrations in etching operations. A reference end point trace is defined (62) for the etch process. Regions are defined in the reference end point trace (70) with aid of a dynamic time warping matching function (84) and characteristics and tolerances for each region are defined (72-80). The etcher is run and an actual end point trace is obtained (82) from the running of the etcher. A warping function is constructed (88) between the actual trace and the reference trace. In building the wa...

대표
청구항
▼

A method for monitoring end point traces of a plasma etch reactor comprising: establishing a reference end point trace for a predetermined etch process; dividing the reference end point trace at critical points thereof into predetermined regions; conducting the predetermined etch process on a semiconductor device; obtaining an actual end point trace for the etch of the semiconductor device; matching the critical points on the reference trace with corresponding critical points on the actual trace using a dynamic time warping function; dividing the actual ...

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Davis Cecil J. (Greenville TX) Spencer John E. (Plano TX) Hockersmith Dan T. (Garland TX) Hildenbrand Randall C. (Richardson TX) Brown Frederick W. (Colleyville TX) Kohan Stanford P. (Garland TX), Automated single slice powered load lock plasma reactor.
  2. Tada Keiji (Kudamatsu JPX) Fujii Takashi (Kudamatsu JPX) Marumoto Gen (Kudamatsu JPX) Jyouo Kazuhiro (Kudamatsu JPX) Fujisawa Takahiro (Yanai JPX), Method of and apparatus for detecting an end point of plasma treatment.
  3. Chen Lee (Poughkeepsie NY) Khoury Henri A. (Yorktown Heights NY) Seymour Harlan R. (Morton Grove IL), Optical emission spectroscopy end point detection in plasma etching.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Birang, Manush; Kolte, Gregory L.; Doyle, Terry Lee; Johansson, Nils; Luscher, Paul E.; Poslavsky, Leonid, Apparatus and method for endpoint control and plasma monitoring.
  2. Jens Stolze DE, Detecting a process endpoint from a change in reflectivity.
  3. Grimbergen Michael N. ; Lill Thorsten B., Endpoint detection for semiconductor processes.
  4. Sui, Zhifeng; Luscher, Paul E; Johansson, Nils; Welch, Michael D, Endpoint detection in substrate fabrication processes.
  5. Michael N. Grimbergen ; Thorsten B. Lill, Endpoint detection in the fabrication of electronic devices.
  6. Wenzel,Lothar; Rajagopal,Ram; Kumar,Satish V.; Schmidt,Darren R.; Crotty,Kevin M.; Fisher,Matthew S.; Nair,Dinesh, Image pattern matching utilizing discrete curve matching with a mapping operator.
  7. Frum, Coriolan I.; Sui, Zhifeng; Shan, Hongqing, Interferometric endpoint detection in a substrate etching process.
  8. Miller, Michael I.; Khaneja, Navin; Bakircioglu, Muge, Method and apparatus for processing images with curves.
  9. Hwang Yuan-Ko,TWX ; Cho Ching-Wen,TWX, Method and system for on-line monitoring plasma chamber condition by comparing intensity of certain wavelength.
  10. Coss, Jr., Elfido; Conboy, Michael R.; Hendrix, Bryce A., Method for requesting trace data reports from FDC semiconductor fabrication processes.
  11. Kropp Lawrence Andrew ; Stanasolovich David ; Weiss Marc Jay ; Yee Dennis Sek-On, Precise endpoint detection for etching processes.
  12. Bi, Jingying; Kuehnle, Goetz, Radar sensor and method for operating a radar sensor.
  13. Lill, Thorsten B.; Grimbergen, Michael N.; Trevor, Jitske; Jiang, Wei-Nan; Chinn, Jeffrey, Substrate monitoring method and apparatus.
  14. Stephan, Robin A., System and method for automated customizable error diagnostics.
  15. Jahns Gary L., System for indirectly monitoring and controlling a process with particular application to plasma processes.

IPC 상위 출원인