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Apparatus for producing a gas mixture by the saturation method

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01F-003/04
출원번호 US-0170222 (1988-03-18)
우선권정보 DE-3708967 (1987-03-19)
발명자 / 주소
  • Sielaff Gnter (Bensheim DEX) Joseph Frank (Gernsheim DEX) Harder Norbert (Aschaffenburg DEX)
출원인 / 주소
  • Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung (Darmstadt DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 6

초록

To produce a gas mixture by the saturation method, liquid is fed from a stock vessel to a separate reaction vessel. A carrier gas enters through a dip tube into the liquid present in the reaction vessel and is saturated by the liquid. The reaction vessel consists, for example, of quartz and is dispo

대표청구항

A device for producing a gas mixture with a liquid by saturation, the device having a stock vessel (2) for containing the liquid and a dip tube (16) for introducing a carrier gas into the liquid, wherein the stock vessel (2) is connected via a liquid line (5) to a separate reaction vessel (6) to whi

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Ebihara Sakae (Yokohama JPX), Carburetor.
  2. Takimoto Hiroaki (Yokohama JPX) Miyajiri Tetsuo (Yokohama JPX) Yoshida Kiminobu (Yokohama JPX) Turita Tamio (Yokohama JPX), Gas supplying apparatus.
  3. Conant ; Louis A. ; Bolton ; Wilbur M. ; Wilson ; James E., Metal coated brittle containers, conduits and other objects for laboratory and industry.
  4. Lynch Brian (Norcross GA) Narasimham Pundi L. (Norcross GA) Partus Fred P. (Marietta GA), Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture.
  5. Miyajiri, Tetsuo; Habasaki, Toshimi; Yokota, Hiroshi; Tsurita, Tamio; Nakahara, Motohiro, Raw material supply device.
  6. Partus Fred P. (Cobbs County GA), Vapor delivery control system and method.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Juen-Kuen Lin TW; Chien-Hsin Lai TW; Peng-Yih Peng TW; Fu-Yang Yu TW, Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition.
  2. Lin Juen-Kuen,TWX ; Lai Chien-Hsin,TWX ; Peng Peng-Yih,TWX ; Yu Fu-Yang,TWX, Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition.
  3. Asaba Tetsuo,JPX ; Kawasumi Yasushi,JPX ; Ohmi Kazuaki,JPX ; Sekine Yasuhiro,JPX ; Hayakawa Yukihiro,JPX, Chemical vapor deposition apparatus.
  4. Nurmi Douglas B., Continuous gas saturation system and method.
  5. Woelk, Egbert; DiCarlo, Ronald L.; Shenai-Khatkhate, Deodatta Vinayak, Delivery device, methods of manufacture thereof and articles comprising the same.
  6. Torkaman, Amir, High flow rate bubbler system and method.
  7. Yamaguchi Tooru (Itami JPX) Tsutahara Kouichirou (Itami JPX) Suenaga Takayuki (Itami JPX), Liquid vaporizing apparatus.
  8. Yamaguchi Tooru,JPX ; Tsutahara Kouichirou,JPX ; Suenaga Takayuki,JPX, Liquid vaporizing apparatus.
  9. Nguyen Son T. ; Hendrickson Scott, Method and apparatus for generating controlled mixture of organic vapor and inert gas.
  10. Woelk, Egbert; DiCarlo, Jr., Ronald L., Method for constant concentration evaporation and a device using the same.
  11. Curran,William J., Method for maintaining a constant level of fluid in a liquid vapor delivery system.
  12. Josse, Juan Carlos; Benedek, Andrew; Thedoulou, Michael David; Scott, Zachary, Organics and nutrient recovery from anaerobic digester residues.
  13. Itonaga, Masashi; Watanabe, Masanobu, Processing gas generating apparatus, processing gas generating method, substrate processing method, and storage medium.
  14. Birtcher, Charles Michael; Steidl, Thomas Andrew; Lei, Xinjian, Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel.
  15. Steidl, Thomas Andrew; Birtcher, Charles Michael; Lei, Xinjian, Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel.
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