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Catalysts comprising ruthenium on titania surface modified with group VA oxide of vanadium, niobium or tantalum 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01J-021/06
  • B01J-023/64
출원번호 US-0034492 (1987-04-03)
발명자 / 주소
  • Wachs Israel E. (Bridgewater NJ) Yang Darchun B. (Houston TX)
출원인 / 주소
  • Exxon Research and Engineering Company (Florham Park NJ 02)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 3

초록

Catalyst compositions comprising ruthenium supported on a surface modified titania support wherein said support comprises a surface modifying oxide of tantalum, niobium or mixture thereof, in a noncrystalline form, supported on said titania are useful for Fischer-Tropsch hydrocarbon synthesis reacti

대표청구항

A catalyst comprising ruthenium supported on a surface modified titania support wherein said support comprises an oxide of a metal selected from the group consisting of niobium, vanadium, tantalum or mixture thereof, in a non-crystalline form, supported on said titania.

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Visca Mario (Alessandria ITX), Catalyst for the photo-decomposition of water and process for the preparation of the catalyst.
  2. Vannice M. Albert (Boalsburg PA) Tauster Samuel J. (Englishtown NJ), Hydrocarbon synthesis from CO and H2 using Ru supported on group VB metal oxides.
  3. Madon Rostam J. (Scotch Plains NJ), Liquid hydrocarbon synthesis using supported ruthenium catalysts.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Eng,John Harvey, Catalyst for the production of 1,3-propanediol by catalytic hydrogenation of 3-hydroxypropanal.
  2. Liu, Qishun; Yin, Heng; Du, Yuguang; Yang, Fengli; Wang, Wenxia, Catalytic conversion of carbohydrates into 5-hydroxymethylfurfural.
  3. Yeung, King-Lun; Lui, Pik-Ying; Ho, Ka-Yee; Banares, Miguel Angel, Low temperature ammonia remediation catalysts.
  4. Magno, Scott; Wang, Ruiping; Derouane, Eric, Mixed oxide solid solutions.
  5. Zhou, Zhenhua; Weiner, Heiko; Wollrab, Radmila, Multifunctional hydrogenation catalysts.
  6. Zhou, Zhenhua; Weiner, Heiko, Processes for making catalysts with metal halide precursors.
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