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Adaptive optical system with synchronous detection of wavefront phase 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-009/02
출원번호 US-0124873 (1987-11-24)
발명자 / 주소
  • Lazzarini Albert J. (Colorado Springs CO) Ulich Bobby L. (Tucson AZ)
출원인 / 주소
  • Kaman Aerospace Corporation (Bloomfield CT 02)
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 1

초록

An adaptive optical system with local wavefront sensing and control interferometrically determines wavefront phase aberration in an incoming electromagnetic beam and adjusts the reflective surface of a deformable mirror. The system is characterized by wavefront phase sensing local to the deformable

대표청구항

An optical system for providing a uniform phase electromagnetic beam from an incoming aberrated electromagnetic beam having wavefront phase variations, comprising: a first beam splitter receiving the incoming electromagnetic beam and providing therefrom first and second split beams; an aperture mean

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Gowrinathan Sankaran (Westport CT), Phase detector for optical figure sensing.

이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Pepper,David M., Adaptive optical system with self-referencing contrast control.
  2. Donald W. Davies, Adaptive optics system using wavefront selection.
  3. Dou Rensheng (Las Cruces NM) Giles Michael K. (Las Cruces NM), Adaptive optics wave measurement and correction system.
  4. Giles Michael K. ; Doyle Sean M. ; Prasad Narashimha, Characterization of collimation and beam alignment.
  5. Levesque, Quentin; Bouchon, Patrick; Haidar, Riad; Pardo, Fabrice, Device for controlling the phase of an optical wavefront having juxtaposed metal-multidielectric-metal structures to induce a local shift.
  6. Moran Steven E. (San Diego CA) Ginaven Robert O. (Encinitas CA) Odeen P. Erik (San Diego CA), Dual detector lidar system and method.
  7. Brosnan Stephen J. ; Heflinger Donald G. ; Heflinger Lee O., Heterodyne wavefront sensor.
  8. Koehler, Elka E.; Andressen, Clarence C.; Jenkins, David G.; Taylor, Byron B., Laser imaging system with uniform line illumination and method for generating images.
  9. Melzer,Frank; Singer,Wolfgang, Lighting system, particularly for use in extreme ultraviolet (EUV) lithography.
  10. Freimann, Rolf; Mayer, Maximilian; Reichelt, Stephan, Method for absolute calibration of an interferometer.
  11. Millerd James E. ; Brock Neal J., Methods and apparatus for splitting, imaging, and measuring wavefronts in interferometry.
  12. Kohl,Alexander; Holderer,Hubert; Lang,Werner; Brandenburg,Hartmut, Objective, particularly a projection objective for use in semiconductor lithography.
  13. Clark Rodney L. (Burley AL), Optically addressed spatial light modulator and method.
  14. Dinger, Udo; Hauf, Markus, Projection illumination system for EUV microlithography.
  15. Harel, Dror; Radin, Boris, Reference signal generation redundancy in distributed antenna systems (DAS), and related devices and methods.
  16. Kugler, Jens; Sorg, Franz; Wurmbrand, Andreas; Schletterer, Thomas; Ittner, Thomas, Replacement apparatus for an optical element.
  17. Kugler, Jens; Sorg, Franz; Wurmbrand, Andreas; Schletterer, Thomas; Ittner, Thomas, Replacement apparatus for an optical element.
  18. Kugler, Jens; Sorg, Franz; Wurmbrand, Andreas; Schletterer, Thomas; Ittner, Thomas, Replacement apparatus for an optical element.
  19. Kugler, Jens; Sorg, Franz; Wurmbrand, Andreas; Schletterer, Thomas; Ittner, Thomas, Replacement apparatus for an optical element.
  20. Kugler, Jens; Sorg, Franz; Wurmbrand, Andreas; Schletterer, Thomas; Ittner, Thomas, Replacement apparatus for an optical element.
  21. Kugler, Jens; Sorg, Franz; Wurmbrand, Andreas; Schletterer, Thomas; Ittner, Thomas, Replacement apparatus for an optical element.
  22. Kugler,Jens; Sorg,Franz; Wurmbrand,Andreas; Schletterer,Thomas; Ittner,Thomas, Replacement apparatus for an optical element.
  23. Fieldhouse, Douglas M.; Wick, Kingsley R., Toll free calling account recharge system and method.
  24. Hubbard ; Jr. James E. (Derry NH), Wavefront sensing and correction with deformable mirror.
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