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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0211773 (1988-06-27) |
우선권정보 | JP-0098829 (1987-06-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 80 인용 특허 : 4 |
An apparatus for treating the surface of wafers with a vaporous agent. The apparatus includes an arrangement in which, prior to being discharged, excess vapor stays for a while outside a treating chamber so as to keep the treating vapor and the discharging excess vapor at the same vaporous level. Th
An apparatus for treating a wafer with treating vapor, said apparatus comprising: a plate member adapted to receive a wafer; a cover member for covering the wafer and for forming a treating chamber between said cover member and said plate member; means for placing said cover member over said plate m
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