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Radiation thermometry 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01J-005/52
출원번호 US-0175051 (1988-03-29)
발명자 / 주소
  • Tanaka Fumio (Fukuoka IN JPX) DeWitt David P. (West Lafayette IN)
출원인 / 주소
  • Purdue Research Foundation (West Lafayette IN 02)
인용정보 피인용 횟수 : 24  인용 특허 : 6

초록

A method of determining true temperatures of a heated target material by its radiation based on prior knowledge of an emissivity function which describes the relationship between two spectral emissivities for the target material, comprising measuring two radiances corresponding to said two spectral

대표청구항

A method of determining true temperature of a heated target material by its radiation based on prior knowledge of a relationship between a first spectral emissivity and a second spectral emissivity for said target material, said relationship being defined by a curve or mathematical equation describi

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Stein Alexander (Secaucus NJ), Apparatus for remote measurement of temperatures.
  2. Rudolph Ralph G. (Pittsburgh PA), Dual sensor radiation pyrometer.
  3. Iuchi Tohru (Kawasaki JPX), Method and an apparatus for simultaneous measurement of both temperature and emissivity of a heated material.
  4. Roney John E. (Monroeville PA), Method and apparatus for measurement of surface temperature.
  5. Herv Philippe (Paris FRX), Processes for the remote measurement of the emissivity and/or the true temperature of a body with relatively smooth surf.
  6. Anderson, Alan S., Temperature measuring apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (24)

  1. Ish-Shalom Yaron,ILX ; Baharav Yael, Active pyrometry with emissivity extrapolation and compensation.
  2. Warren ; Jr. Waite R. ; Cox John T. ; Nicholls Louis W., Apparatus and method for detecting an error in the placement of a lead frame on a surface of a die mold.
  3. Yam Mark ; Hunter Aaron M., Apparatus and method for measuring substrate temperature.
  4. Rudolph Ralph G. (Center Valley PA), Apparatus and method for measuring temperature and/or emissivity of steel strip during a coating process.
  5. Jennings Dean, Apparatus and methods for measuring substrate temperature.
  6. Adams Bruce ; Hunter Aaron ; Rubinchik Alex ; Yam Mark ; O'Brien Paul A., Apparatus for substrate temperature measurement using a reflecting cavity and detector.
  7. Picard, Tate S.; Woods, Kenneth J.; Young, Jr., Roger E.; Connally, William J., Centralized control architecture for a laser materials processing system.
  8. Peuse Bruce W. ; Miner Gary E. ; Yam Mark ; Hunter Aaron ; Knoot Peter ; Mershon Jason, Method and apparatus for measuring substrate temperatures.
  9. Turtiainen Heikki,FIX ; Antikainen Veijo,FIX, Method and temperature sensor structure for elimination of radiation error.
  10. Zettler, Joerg-Thomas; Schenk, Tobias; Uredat, Steffen; Zilian, Jens; Henninger, Bernd; Binetti, Marcello; Haberland, Kolja, Method for calibrating a pyrometer, method for determining the temperature of a semiconducting wafer and system for determining the temperature of a semiconducting wafer.
  11. Peuse Bruce W. ; Miner Gary E. ; Yam Mark, Method of calibrating a temperature measurement system.
  12. Spitzberg Richard M., Non-contact surface temperature, emissivity, and area estimation.
  13. Connally,William J.; Woods,Kenneth J., Process monitor for laser and plasma materials processing of materials.
  14. Hollander Milton Bernard ; Macchiarelli ; Jr. Michael A. ; Baghai Shahin, Pyrometer multimeter.
  15. Kraus Bernhard,DEX ; Kaiser Manfred,DEX, Radiation thermometer and method of computing the temperature.
  16. Ralph A. Felice, Temperature determining device and process.
  17. O'Neill,Terrence J.; Brown,Steven, Temperature measuring apparatus.
  18. Nguyen, Evans H.; Bublitz, Scott D.; Crowe, Jason R.; Jones, Mike N., Test and measurement device with a pistol-grip handle.
  19. Nguyen, Evans H.; Bublitz, Scott D.; Crowe, Jason R.; Jones, Mike N., Test and measurement device with a pistol-grip handle.
  20. Nguyen, Evans H.; Bublitz, Scott D.; Crowe, Jason R.; Jones, Mike N., Test and measurement device with a pistol-grip handle.
  21. Rosenthal,Peter A.; Xu,Jiazhan; Charpenay,Sylvie; Cosgrove,Joseph E., Thermal imaging for semiconductor process monitoring.
  22. Fujima Mikako,JPX, Thermometer.
  23. Aderhold Wolfgang ; Mayur Abhilash J. ; Knoot Peter A., Tuning a substrate temperature measurement system.
  24. O'Neill,Terrence J.; Gollnick,Robin W., Wind velocity measuring apparatus.
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