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Method for the preparation of silica glass 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-037/016
출원번호 US-0249317 (1988-09-26)
우선권정보 JP-0024685 (1987-09-30); JP-0246686 (1987-09-30)
발명자 / 주소
  • Shimizu Takaaki (Niigata JPX) Tanaka Syuji (Niigata JPX)
출원인 / 주소
  • Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 7

초록

An improved sol-gel method is proposed for the preparation of a transparent silica gel block, in which a deposit of fine silica particles having a controlled particle diameter as prepared by hydrolyzing an alkoxy silane in the presence of ammonia is dispersed in a silica sol solution prepared in an

대표청구항

A method for the preparation of transparent silica glass which comprises the successive steps of: (a) hydrolyzing an alkoxy silane compound in the presence of a basic catalyst to prepare a dispersion containing spherical particles of silica; (b) removing the basic catalyst from the dispersion by dis

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Matsuyama Iwao (Sagamihara JPX) Susa Kenzo (Hinodemachi JPX) Satoh Shin (Iruma JPX) Suganuma Tsuneo (Tokorozawa JPX), Method for producing optical glass.
  2. Motoki Masanobu (Nagano JPX) Matsuo Nobutaka (Nagano JPX) Kanbe Sadao (Nagano JPX) Osafune Haruo (Nagano JPX) Itoh Yoshitaka (Nagano JPX), Method of preparing doped silica glass.
  3. Matsuo Nobutaka (Nagano JPX) Motoki Masanobu (Nagano JPX) Itoh Yoshitaka (Nagano JPX) Kanbe Sadao (Nagano JPX) Osafune Haruo (Nagano JPX), Method of preparing preforms for optical fibers.
  4. Mishima Michiharu (Matsuzaka JPX) Yamamoto Yuji (Matsuzaka JPX) Makita Kensuke (Matsuzaka JPX) Sakka Sumio (Tsu JPX) Kamiya Kanichi (Mie JPX), Method of producing glass from metal alkoxide solution.
  5. Passaret Michel (20 ; rue Pierre Le Goffic 22700 Perros Guirec FRX), Process for manufacturing a glass tube comprising at least one doped silica layer.
  6. Onorato Paulette I. K. (Sudbury MA) Su Sophia R. (Weston MA), Process for molding optical components of silicate glass to a near net shape optical precision.
  7. Toki Motoyuki (Suwa JPX) Kanbe Sadao (Suwa JPX) Miyashita Satoru (Suwa JPX) Takeuchi Tetsuhiko (Suwa JPX), Silica glass formation process.

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Doan, Trung Tri, Chemical mechanical polishing process.
  2. Doan,Trung Tri, Chemical mechanical polishing process.
  3. Doan, Trung Tri, Chemical mechanical polishing slurry.
  4. Chen You-Lung ; Patel Sanjay ; Valdes Jorge Luis, Fabrication including sol-gel processing.
  5. Bhandarkar, Suhas; De Hazan, Yoram; MacChesney, John Burnette; Stockert, Thomas Edward, Manufacture of silica bodies using sol-gel techniques.
  6. Partlow Deborah P. (Pittsburgh PA) Gurkovich Stephen R. (Penn Hills PA) Radford Kenneth C. (North Huntingdon PA) Piloto Andrew J. (Columbia MD), Method for manufacturing a low loss, low temperature cofired ceramic.
  7. Freund,Jochen; Gierke,Monika; Kolberg,Uwe; Hentschel,Ruediger; Clasen,Rolf, Method for manufacturing optical glasses and colored glasses at low temperatures.
  8. Chiurlo Paolo,ITX ; Cogliati Guido,ITX ; Costa Lorenzo,ITX, Method for preparing optical components and devices in their final or nearly final dimensions, and products obtained th.
  9. Doan, Trung Tri, Particle forming method.
  10. Doan, Trung Tri, Particle forming methods.
  11. Brewer Richard ; Grebinski Thomas J. ; Currie James E. ; Jones Michael ; Mullee William ; Nguyen Ann, Planarization compositions and methods for removing interlayer dielectric films.
  12. MacKinnon Robin J., Process for making molded glass and ceramic articles.
  13. Talisa Salvador H. ; Janocko Michael A. ; Partlow Deborah P. ; Piloto Andrew J., Technique for fabricating hybrid high-temperature superconductor-semiconductor circuits.
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