최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0281960 (1988-12-06) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 3 |
A technique is described for improving metal-organic substrate adhesion and for reducing stress between the metal film and the substrate. Low energy reactive ions, electrons, or photons are incident upon the substrate to alter the surface chemistry of the substrate to a depth of from about 10 angstr
A method for improving metal adhesion to an organic substrate, including the steps of: irradiating a surface of said substrate with low energy particles, said particles being selected from the group consisting of reactive ions, electrons and photons, wherein said reactive ions and electrons have ene
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.