[특허]Plasma pinch system

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Plasma pinch system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01S-003/09
출원번호	US-0129152 (1987-12-07)
발명자 / 주소	Asmus John F. (La Jolla CA) Lovberg Ralph H. (San Diego CA)
출원인 / 주소	The Regents of the University of California (Berkeley CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 10

초록 ▼

A plasma pinch system includes a fluid-jet pinch device for establishing a plasma source composed of a tenuous vapor preconditioning cloud surrounding a central narrow flowing fine stream of fluid under pressure. A discharge device is connected electrically to the fluid-jet pinch device for supplying an electrical flow through a portion of the fluid stream for establishing an incoherent light emitting plasma therealong. A method of using the plamsa pinch system for manufacturing semiconductors, includes exposing a semiconductor wafer to the incoherent light emitted by the plasma for either annealing or etching purposes.

대표청구항 ▼

A method of generating a plasma pinch, comprising: using a pair of spaced apart combination liquid emitter and electrode means, and combination liquid receptor and electrode means; flowing between said pair of electrode means a fine stream of liquid under sufficient pressure in a substantially narrow, straight and focused configuration, to cause the formation thereabout of a tenuous liquid vapor preconditioning cloud surrounding the flowing fine stream of liquid; establishing an electrical voltage potential difference between said electrode means of a sufficient high voltage to cause electrical current to flow through said liquid vapor cloud for establishing initially a low density plasma therealong sufficient to emanate energy therefrom to said flowing liquid stream to heat it sufficiently to cause it to become ionized and to be converted into a high density plasma in response to said low density plasma.

이 특허에 인용된 특허 (10)

Fletcher James C. Administrator of the National Aeronautics and Space Administration ; with respect to an invention of ( Los Angeles CA) Libby Willard F. (Los Angeles CA) Jensen Carl A. (Davis CA) Wo, Continuous plasma laser.
상세보기
Collins George J. (Ft. Collins CO) Rocca Jorge J. (Ft. Collins CO) Meyer Jack D. (Ft. Collins CO), D.C. electron beam method and apparatus for continuous laser excitation.
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Walsh Peter J. (Sterling NY) Bottka Nicholas (Springfield VA), Internal photolysis reactor.
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Samis ; Michael A., Non-equilibrium plasma glow jet.
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Sugioka Shinji (Kawasaki JPX), Photochemical vapor deposition apparatus.
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Tanaka Kazuya (Kawasaki JPX) Sugioka Shinji (Kawasaki JPX), Photochemical vapor deposition apparatus.
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Asmus John F. (La Jolla CA), Pumping a photolytic laser utilizing a plasma pinch.
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Silfvast William T. (Holmdel NJ) Wood ; II Obert R. (New York NY), Recombination laser.
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Kossiakoff Alexander (Brookville MD) Austin James R. (Gaithersburg MD), Search radar adaptive video processor.
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Okada Ikuo (Isehara JPX) Saitoh Yasunao (Isehara JPX) Yoshihara Hideo (Yokohama JPX) Nakayama Satoshi (Sayama JPX), X-ray source and X-ray lithography method.
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이 특허를 인용한 특허 (5)

Nakamura Tsuyoshi,JPX ; Suzuki Shunichi,JPX, Apparatus and method for centering and feeding log.
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John F. Asmus, Inner/outer coaxial tube arrangement for a plasma pinch chamber.
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Smith, Donald K., Laser-driven light source for generating light from a plasma in an pressurized chamber.
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Asmus John F., Method and apparatus for utilizing a laser-guided gas-embedded pinchlamp device.
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Chaboki,Amir; McPeak,Reed A.; Triviski,Michael R.; Zelenak,Steven R., Transverse plasma injector ignitor.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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