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Polymer from nitrile terminated compounds having Schiff bonds and process for preparing the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C08G-083/00
  • C08G-073/00
출원번호 US-0151510 (1988-02-02)
우선권정보 JP-0035562 (1987-02-20)
발명자 / 주소
  • Nishikawa Akio (Hitachi JPX) Koyama Toru (Hitachi JPX) Asano Hideki (Mito JPX) Narahara Toshikazu (Ibaraki JPX)
출원인 / 주소
  • Hitachi, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 7

초록

There are disclosed a nitrile-terminated Schiff compound represented by the formula X-Z-Y-C≡N)m (I) wherein n is 1 or 2, Z is -CH〓N-or -N〓CH-and Y is a divalent organic group such as phenylene and the like, and X is the same as Y when n=2 or H, lower alkyl group etc. when n=1; polymers obtained by p

대표청구항

A polymer obtained by polymerizing a nitrile-terminated Schiff compound monomer by heating said monomer to a temperature sufficient to cause polymerization but below the temperature at which an exothermic reaction occurs, said monomer represented by the formula: X-(Z-Y-C≡N)n wherein n is a number of

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Winter ; Roland A. E., .alpha.,.beta.-Unsaturated schiff-base chain extension reactions for high temperature polymers.
  2. D\Alelio Gaetano Francis (2011 E. Cedar St. South Bend IN 46617), Chain-extending Schiff base terminated polyimides and method of preparation.
  3. Darmory ; Franklin P. ; DiBenedetto ; Marianne, Crosslinked resins prepared from an N,N'-bis-imide and a Schiff base.
  4. Griffith ; James R. ; O'Rear ; Jacques G., Electrical conducting phthalonitrile polymers.
  5. Bilow Norman (Encino CA), Polymeric Schiff\s bases containing acetylene terminal groups.
  6. Helgorsky Jacques (Fretillon FR) Auroy Michel (Chauny FR), Purification of waste water containing phthalic esters.
  7. Hsu, Li-Chen, Ring-chain polymer containing triaryl-s-triazine ring and other heat-resistant heterocyclic rings.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Heldoorn,Fred Lawrence, Plastic takeout holder and ceramic insert for use in bottle manufacturing.
  2. Guidotti Bruno,CHX ; Caseri Walter,CHX ; Suter Ulrich,CHX ; Saur Wolfgang,CHX, Silicon or silica substrate with a modified surface, process for producing the same, new orthoesters and process for p.
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