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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0277432 (1988-11-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 43 인용 특허 : 1 |
A method of forming large grain polycrystalline films by deep ion implantation into a composite structure, comprising a layer of amorphous semiconductor material upon an insulating substrate. Implantation is of a given ion species at an implant energy and dosage sufficient to distrupt the interface
A method for forming large grain polycrystalline films comprising the steps of providing a layer of insulating material, depositing a layer of amorphous semiconductor material upon said insulating material to form a composite structure, implanting an ion species into said composite structure at an i
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