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Microwave plasma torch, device comprising such a torch and process for manufacturing powder by the use thereof 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B23K-009/00
출원번호 US-0204866 (1988-06-10)
우선권정보 FR-0008096 (1987-06-10)
발명자 / 주소
  • Labat Jean-Luc (Ibaraki JPX) Ougarane Lahcen (Elancourt FRX) Gastiger Michel (Orsay FRX)
출원인 / 주소
  • L\Air Liquide, Societe Anonyme Pour L\Etude et L\exploitation des procedes Georges Claude (Paris FRX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 26  인용 특허 : 6

초록

The microwave torch comprises at least one gas supply conduit (1, 2); a resonant cavity (3) forming around the conduit a sleeve open adjacent to the outlet of the conduit and including a lateral opening (4); a transition coaxial structure perpendicular to the sleeve comprising, on one hand, an outer

대표청구항

A microwave plasma torch, comprising: a hollow wave guide member for connection to a microwave energy generator, said wave guide member having a rectangular cross-section defining first and second opposite walls, and a first opening in said first wall; at least one gas supply conduit having an outle

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Arai Sakae (Yokohama JPX), Activated gas generator.
  2. Ogawa Kazuyuki (Yokohama JA) Hirose Masahiko (Yokohama JA) Shibagaki Masahiro (Hiratsuka JA) Murakami Yoshio (Yokohama JA) Horiike Yasuhiro (Naritanishi JA), Activated gas reaction apparatus & method.
  3. Hirose Masahiko (Yokohama JPX) Nishida Katsutoshi (Yokohama JPX), Apparatus for treating powdery materials utilizing microwave plasma.
  4. Gerling John E. (1648 Kansas Ave. Modesto CA 95351), Frequency stabilized microwave power system and method.
  5. Suzuki ; Keizo ; Okudaira ; Sadayuki ; Kanomata ; Ichiro ; Sakudo ; Nori yuki, Plasma etching apparatus.
  6. Manser Josef A. (Uzwil CHX) Dankesreiter Georg (Oberburen CHX), Process for treatment of pourable materials with microwaves.

이 특허를 인용한 특허 (26)

  1. Carr,Jeffrey W., Apparatus and method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for shaping of damage free surfaces.
  2. Lahti, Thomas Don; Ihde, Jeffery Ray; Rappl, James Francis, Auxiliary shielding gas filter for a welding apparatus.
  3. Peschel, William P., Directly connected magnetron powered self starting plasma plume igniter.
  4. Hong, Yong-Cheol; Yoon, Jung-Sik; Kim, Ji-Hun, Electromagnetic wave high frequency hybrid plasma torch.
  5. Carr, Jeffrey W., Method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for surface modification.
  6. Appriou, André; Truchot, Charles; Guina, Sabine, Method for building up plasma on an optical fiber preform, while reducing nitrogen oxides.
  7. Carr,Jeffrey W., Method for non-contact cleaning of a surface.
  8. Bark, Yoo Byung; Taktakkishvili, Merab I.; Gritsinin, Sergei I.; Kossyi, Igor, Microwave plasma burner.
  9. Krupashankara M. Sethuram ; Raja Kalyanaraman, Microwave plasma chemical synthesis of ultrafine powders.
  10. Urayama, Takuya; Fujioka, Kazunari; Uchiyama, Masahiko, Microwave plasma generation method and microwave plasma generator.
  11. Kumar, Satyendra; Kumar, Devendra, Plasma catalyst.
  12. Kumar,Satyendra; Kumar,Devendra, Plasma catalyst.
  13. Kumar, Satyendra; Kumar, Devendra, Plasma generation and processing with multiple radiation sources.
  14. Kumar,Satyendra; Kumar,Devendra, Plasma generation and processing with multiple radiation sources.
  15. Kumar,Devendra; Kumar,Satyendra, Plasma-assisted decrystallization.
  16. Kumar,Satyendra; Kumar,Devendra, Plasma-assisted doping.
  17. Kumar,Devendra; Kumar,Satyendra, Plasma-assisted enhanced coating.
  18. Kumar,Satyendra; Kumar,Devendra, Plasma-assisted formation of carbon structures.
  19. Kumar,Satyendra; Kumar,Devendra, Plasma-assisted gas production.
  20. Kumar, Satyendra; Kumar, Devendra; Dougherty, Michael L., Plasma-assisted heat treatment.
  21. Kumar, Devendra; Kumar, Satyendra, Plasma-assisted joining.
  22. Kumar,Devendra; Kumar,Satyendra, Plasma-assisted joining.
  23. Kumar,Satyendra; Kumar,Devendra, Plasma-assisted melting.
  24. Kumar,Devendra; Kumar,Satyendra, Plasma-assisted nitrogen surface-treatment.
  25. Dougherty, Sr., Michael L.; Kumar, Devendra; Kumar, Satyendra, Plasma-assisted processing in a manufacturing line.
  26. Kumar,Satyendra; Kumar,Devendra; Tasch,Dominique; Stroebel,Raimund, Surface cleaning and sterilization.
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