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Apparatus and process for coloring objects by plasma coating 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05C-001/02
출원번호 US-0393054 (1989-08-10)
우선권정보 CA-0538430 (1987-05-29)
발명자 / 주소
  • Bell James A. E. (Oakville CAX) Conard Bruce R. (Oakville CAX)
출원인 / 주소
  • Inco Limited (Toronto CAX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 8

초록

A technique for presenting and fixturing small items that are coated by vapor deposition techniques. The objects are caused to be moved within the plasma stream to effect full coverage. The coating, if titanium nitride, is gold colored and is, for example, useful for coinage applications.

대표청구항

An apparatus for plasma coating objects, the system comprising a sealable reactor chamber, means for introducing at least one ionic plasma stream into the reactor, an object of storage means disposed within the reactor chamber situated to receive the ionic plasma stream, the improvement comprising t

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Prentakis Antonios E. (Cambridge MA), Apparatus and method for loading and unloading wafers.
  2. Schram ; deceased Richard R. (3140 Clybourn Ave. late of Northridge CA) Schram ; executor by Gary R. (3140 Clybourn Ave. Burbank CA 91505), Automated wafer inspection system.
  3. Uehara, Akira; Hijikata, Isamu; Nakane, Hisashi; Nakayama, Muneo, Automatic plasma processing device and heat treatment device.
  4. Van Mastrigt Max (San Jose CA), Chemical vapor deposition apparatus.
  5. Seddon Richard I. (Santa Rosa CA), Coating apparatus.
  6. Yamazaki Shunpei (Tokyo JPX), Method and apparatus for forming non-single-crystal layer.
  7. Manabe Katsuhide (Aichi JPX) Ogisu Yasuhiko (Aichi JPX), Plasma processing apparatus.
  8. Slabaugh Edward J. (San Jose CA), Substrate rotation method and apparatus.
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