[특허]Hydrofluoric acid reprocessing for semiconductor standards

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01D-003/10 C01B-007/19
출원번호	US-0231850 (1988-08-12)
발명자 / 주소	Dobson Jesse (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA)
출원인 / 주소	Alameda Instruments, Inc. (Pleasanton CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 17

초록 ▼

A two-step distillation process provides semiconductor purity, concentrated hydrofluoric acid. Further, the distillation process, occurring under reduced pressures eliminates essentially pure water after the first distillation step. The product output of the second distillation process provides an acid of weight percent greater than 27 weight percent. The product acid is carefully diluted to the required concentrations during the dilution step.

대표청구항 ▼

A spent hydrofluoric (HF) acid recycling and purification process comprising the steps of: first distilling a spent acid solution comprised of HF acid, water and waste through a first distillation means such that said water is vaporized and then condensing pure water by a condensing means coupled to the output of said first distillation means leaving a concentrated solution of HF acid and waste in said first distilling means; refluxing pure water through said first distillation means; conveying said concentrated solution of HF acid from said first distillation means to a second distillation means operating at a pressure below atmospheric pressure; boiling over a pure HF acid vapor from said second distillation means leaving a concentrated waste in said second distillation means; condensing said pure HF acid vapor into a pure HF acid solution by a second condensing means; collecting said pure HF acid solution in a product collection means; discarding said concentrated waste from said second distillation means after said pure HF acid vapor has boiled over into said second condensing means.

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Sussmeyer Robert (Brussels BEX) Pluvinage Alain (Irchonwelz BEX) Moenaert Christian (Brussels BEX), Apparatus for the fractionation of a mixture comprising at least one liquid volatile fraction.
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Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua, Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids used in semiconductor wafer c.
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Leathers Joel F. M. (Midland MI) Calvin Donald W. (Zachary LA), Method for distilling a ternary azeotrope of fluorosilicic acid, hydrogen fluoride and water.
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Kuhnlein Hans L. (Fuellinsdorf CHX) Muller Wolfgang-Dieter (Leverkusen DEX), Multi-stage apparatus for concentrating sulphuric acid.
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von Plessen Helmold (Kelkheim ; Taunus DT) Schiessler Siegfried (Frankfurt am Main DT), Process for regenerating sulfuric acid.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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