[특허]Cathode sputtering system

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Cathode sputtering system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-014/34
출원번호	US-0386975 (1989-07-31)
우선권정보	DE-3912297 (1989-04-14)
발명자 / 주소	Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX)
출원인 / 주소	Leybold Aktiengesellschaft (DEX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 9

초록 ▼

A cathode sputtering system comprising an annularly-shaped process chamber and a correspondingly annularly-shaped substrate carrier accommodated therein. The chamber and carrier are positioned vertically. A cathode station and a loading and unloading station are positioned on vertical walls of the c

대표청구항 ▼

A cathode sputtering system for coating substrates, comprising: an annularly shaped process chamber oriented about a horizontal axis, said chamber having a plurality of vertical walls; an annularly shaped substrate carrier accommodated within the process chamber and oriented about the horizontal axis; at least one cathode station mounted on a vertical wall of the chamber; and at least one substrate loading and unloading station mounted on a vertical wall of the chamber.

이 특허에 인용된 특허 (9)

Denton Peter R. (Cherry Hill NJ) Boyarsky David (Cherry Hill NJ), Apparatus for coating compact disks.
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Walde Michael (Rodenbach DEX) Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX), Apparatus for passing workpieces into and out of a coating chamber through locks.
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Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
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Ackley James W. (Los Altos CA), Load lock pumping mechanism.
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Hugues Jean B. (Tempe AZ) Weber Lynn (Saratoga CA) Herlinger James E. (Palo Alto CA) Nishikawa Katsuhito (San Jose CA) Schuman Donald L. (Saratoga CA) Yee Gary W. (Santa Clara CA), Method and apparatus for transferring wafers between cassettes and a boat.
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Graves, Jr., Walter E., Substrate and substrate holder.
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Bloomquist Darrel R. (Boise ID) Drennan George A. (Eagle ID) Lawton Robert J. (Boise ID) Opfer James E. (Palo Alto CA) Jacobson Michael B. (Boise ID), System and method for depositing plural thin film layers on a substrate.
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Hutchinson, Martin A.; Shaw, R. Howard; Coad, George, Transfer plate rotation system.
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Turner Frederick T. (Sunnyvale CA) Hutchinson Martin A. (Santa Clara CA) Shaw R. Howard (Palo Alto CA) Lamont ; Jr. Lawrence T. (Mountain View CA), Wafer coating system.
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이 특허를 인용한 특허 (6)

Moslehi, Mehrdad M.; Davis, Cecil J.; Mann, Christopher J.; Jakubik, Dwain R.; Paranjpe, Ajit P., Apparatus and method for multi-target physical-vapor deposition of a multi-layer material structure.
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Pelissier Laurent (Grenoble FRX), Device for carrying out sequential thermal treatments under a vacuum.
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Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
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Schertler Roman (Wolfurt ATX), Method for masking a workpiece and a vacuum treatment facility.
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Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
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Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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