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Waste solution treatment method and apparatus therefor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-003/08
  • B01D-003/42
출원번호 US-0271383 (1988-11-14)
우선권정보 JP-0078885 (1986-04-04)
발명자 / 주소
  • Aoki Syozo (Hino JPX) Kuse Satoru (Hino JPX) Koboshi Shigeharu (Sagamihara JPX)
출원인 / 주소
  • Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 7

초록

An apparatus for treating a waste solution generated when a photosensitive material is processed by an automatic developing machine includes a waste solution reservoir which is maintained at a constant level. A drum, partially immersed in the waste solution, is rotated to coat its surface. The drum

대표청구항

A waste liquid treatment apparatus for treating waste solutions resulting from photographic processing comprising: evaporation means including a continuous enclosure means having an interior portion sealed by said enclosure means from communication with the ambient, and heating means for heating the

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Wemhoff Mark F. (P.O. Box 4031 Enterprise FL 32725), Apparatus for photographic film processor pollution control.
  2. Weishaar Fern (Coram NY) Weishaar Walter (Coram NY), Apparatus for pollution control of industrial waste systems.
  3. Vandeputte Camille Angelina (Mortsel BE) Fierens Marcel Robert (Duffel BE) Aelterman Marcel Frans (Mortsel BE), Apparatus for processing photographic film and recovering solid substances from the processing solutions used.
  4. Eisden Remilio L. (Willemstad ; Curacao ANX), Process and an installation for the treatment of water.
  5. Irie Hiromitsu (Higashi-Minemachi JPX) Tajima Fumio (Tokyo JPX) Kuribayashi Nobuhide (Tokyo JPX) Isozaki Kazuhisa (Tokyo JPX), Process for treating radioactive liquid waste.
  6. McFee Richard (852 Ostrom Ave. Syracuse NY 13210), Water distiller.
  7. Cooksley Ralph D. (Apt. 543 ; South Tower ; 1800 Silas Deane Highway Rocky Hill CT 06067), Water purification apparatus and method.

이 특허를 인용한 특허 (17)

  1. Kurematsu Masayuki,JPX ; Yuzawa Satoshi,JPX ; Kuroda Shoichi,JPX ; Shibata Souichiro,JPX ; Shimamura Noriyuki,JPX ; Kawada Toshiaki,JPX ; Yoshiokaya Yuio,JPX, Apparatus for concentrating waste liquid.
  2. Holmgren, Arne; Lu, Jun, Composition comprising selenazol or thiazolone derivatives and silver and method of treatment therewith.
  3. Steve Kresnyak CA; Minoo Razzaghi CA; Robert Spiering CA, Distillation process with reduced fouling.
  4. Al-Garni, Ahmed; Kassem, Ayman; Saeed, Farooq, Double action solar distiller.
  5. Deem, Charles E.; Hunter, Mark S.; Hodkiewicz, Donald J.; Monore, Steven W.; Thomson, Scott M.; Barrie, Thomas H.; Jadin, Timothy D.; Gardner, Steven M.; Giannunzio, Scott L., Energy-efficient yankee dryer hood system.
  6. Deem, Charles E.; Hunter, Mark S.; Hodkiewicz, Donald J.; Monroe, Steven W.; Thomson, Scott M.; Barrie, Thomas H.; Jadin, Timothy D.; Gardner, Steven M.; Giannunzio, Scott L., Energy-efficient yankee dryer hood system.
  7. Alsadah, Jihad Hassan, Flexible belt evaporator.
  8. Minoo Razzaghi CA; Robert Spiering CA, Mechanical vapor recompression separation process.
  9. Hsiue J. S.,TWX ; Yang B. H.,TWX ; Fang T. J.,TWX ; Wang J. J.,TWX ; Lee W. C.,TWX ; Chang T. D.,TWX ; Chung C. S.,TWX ; Chuang W. F.,TWX, Method and apparatus for treating exhaust gas from a semiconductor fabrication machine.
  10. John C. Ellis, Jr., Method and apparatus for water degasification and distillation.
  11. Karlström, Benny; Hedkvist, Jan, Method and plant for purification of oil-contaminated bilge and sludge water on a ship, and ship equipped with such plant.
  12. Peter J. Twist GB; Nigel R. Wildman GB; Eric R. Schmittou, Method and system for processing photographic material which includes water recovery from humid air for re-use in the processing.
  13. Nakamura Takashi (Kanagawa JPX) Nakayama Yasuhiro (Kanagawa JPX) Iwano Haruhiko (Kanagawa JPX) Miyazaki Hideo (Kanagawa JPX), Methods of removing silver.
  14. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site ammonia purification for semiconductor manufacture.
  15. Popp William J. (Cedarburg WI), Passive pH adjustment for analytical instruments.
  16. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture.
  17. Matsuura,Kazuo; Sato,Masanori, Ultrasonic solution separator.
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