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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0373883 (1989-06-30) |
우선권정보 | DE-3901017 (1989-01-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 32 인용 특허 : 2 |
A method and apparatus for monitoring layer erosion in a dry-etching process. The apparatus has a first electrode that is electrically connected to a substrate to be etched, as well as a second electrode that is located above the first electrode. Both electrodes are situated inside a process chamber
A method for monitoring layer erosion of layers on at least one substrate in a dry-etching process, having a first electrode that electrically contacts the substrate to be etched and a second electrode that is located above the first electrode, both electrodes being situated inside a process chamber
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