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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0309521 (1989-02-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 5 |
Diamond films are deposited at substrates below temperatures of 400°C. by chemical vapor deposition using a high powered pulsed laser and a vapor which is an aliphatic carboxylic acid or an aromatic carboxylic anhydride.
A process for depositing a diamond film on a substrate said process comprising the steps of: (a) confining in an enclosed space which includes a substrate at a temperature below 400°C., the vapor of a compound which is aliphatic carboxylic acid or an aromatic carboxylic anhydride; and (b) irradiatin
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