[특허]Heating furnace for semiconductor wafers

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Heating furnace for semiconductor wafers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F27B-005/14
출원번호	US-0223343 (1988-07-25)
우선권정보	JP-0191673 (1987-07-31); JP-0272403 (1987-10-28)
발명자 / 주소	Kumagai Hiromi (Tokyo JPX) Sato Kaoru (Tokyo JPX) Imai Yoshio (Tokyo JPX)
출원인 / 주소	Tokyo Electron Limited (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 4

초록 ▼

A heating furnace for semiconductor wafers having a heater arranged around a core tube, layers of a heat insulating material made of a porous heat insulating material or ceramic fibers arranged around the heater, and layers of a heat reflecting material arranged in the layers of the heat insulating

대표청구항 ▼

A heating furnace for semiconductor wafers comprising a heating line which is coiled around a core tube and is 5-15% more densely coiled at that portion thereof which corresponds to the center of said core tube than at those portions thereof which are adjacent to the center of said core tube, its coiling density being varied along the longitudinal axis of the furnace in the order of intermediate density-low density-high density-low density-intermediate density, layers of a heat insulating material or of ceramic fibers arranged around said heating line, and at least one layer of a heat reflecting material being a thin film vapor deposited on the inner face of said heat insulating material.

이 특허에 인용된 특허 (4)

Bergman Carl (Vesteras SEX), Cylindrical furnace for treating materials at high temperatures and pressures.
상세보기
Hasuda Yoshinori (Tokyo JPX) Sasaki Shigekuni (Iruma JPX) Ichino Toshihiro (Yokohama JPX), Flexible optical solar reflector.
상세보기
McGlory Joseph J. (13 Kathryn Rd. Chalfont PA 18914), Laminated insulation.
상세보기
Wenman James A. (Louisville KY), Thermally protected recessed lighting fixture.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

Bernhardt, Henry; Seidemann, Thomas; Stadtmueller, Michael, Heating system, method for heating a deposition or oxidation reactor, and reactor including the heating system.
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Gero Lawrence R. ; Rowell David M., Process tube with in-situ gas preheating.
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Liao, Shu Wei, Warmth-keeping structure of cold cathode lamp.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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