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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0253820 (1988-10-06) |
우선권정보 | JP-0254268 (1987-10-08); JP-0022463 (1988-02-02); JP-0071160 (1988-03-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 0 |
In an apparatus for forming an aluminum thin film, or an aluminum alloy thin film useful to an interconnecting material of an electronic device, there are provided: a processing chamber capable of keeping a vacuum condition therein; a substrate holder mounted within said processing chamber, for hold
In an electronic device having an interconnecting material formed from either an aluminum film or an aluminum alloy film, made by a method of forming said film as a single crystal film, comprising the steps of: heating a predetermined gas to produce a thermal variation at a first stage; supplying sa
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