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Wafer handling system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65G-047/24
출원번호 US-0351741 (1989-04-17)
발명자 / 주소
  • Engelbrecht Orest (Ridgefield CT)
출원인 / 주소
  • SVG Lithography Systems, Inc. (Wilton CT 02)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 10

초록 ▼

This invention relates to apparatus for pre-aligning the transport stage of an automated wafer handling lithographic system. The wafer is first rotated and its displacement in X, Y, and q

대표청구항

Apparatus for precisely positioning a semiconductor disc wafer bearing qqqqq

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Prentakis Antonios E. (Cambridge MA), Apparatus and method for loading and unloading wafers.
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  2. Schram ; deceased Richard R. (3140 Clybourn Ave. late of Northridge CA) Schram ; executor by Gary R. (3140 Clybourn Ave. Burbank CA 91505), Automated wafer inspection system.
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  3. Sato Hiroshi (Tokyo JPX) Takatsu Kei (Tokyo JPX) Isohata Junji (Tokyo JPX), Automatic wafer orienting apparatus.
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  4. Jacoby Hans-Dieter (Werdorf DEX) Schmidt Peter (Huettenberg DEX), Device for automatically transporting disk shaped objects.
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  5. Correnti Albert D. (Hamilton Township ; Mercer County NJ) Potechin James (Cranbury NJ), Method and apparatus for handling semiconductor wafers.
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  6. Fredriksen Thorbjoern R. (Santa Clara CA) Villers Philippe (Concord MA), Method and apparatus for targetless wafer alignment.
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  7. Moran Raymond D. (Springdale PA), Position sensor.
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  8. Daly John K. (Scottsdale AZ) Terry Malvin D. (Phoenix AZ), Surface inspection system.
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  9. Quinn Peter W. (Danbury CT), Wafer aligners.
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  10. Judell Neil H. (Jamaica Plain MA) Abbe Robert C. (Newton MA) Poduje Noel S. (Needham Heights MA) Mallory Roy (Bedford MA), Wafer alignment station.
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이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Fenske, Reiner G., Apparatus, system, and methods for weighing and positioning wafers.
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  2. Fenske, Reiner G.; Denu, David S., Apparatus, system, and methods for weighing and positioning wafers.
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  3. Fenske, Reiner G.; Denu, David S., Apparatus, system, and methods for weighing and positioning wafers.
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  4. Brown, Paul D., Article transfer apparatus.
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  5. Paul D. Brown, Article transfer apparatuses.
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  6. Brown Paul D., Article transfer methods.
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  7. Sewell, Harry; Ivaldi, Jorge; Shamaly, John, Catadioptric lithography system and method with reticle stage orthogonal to wafer stage.
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  8. Sewell, Harry; Ivaldi, Jorge; Shamaly, John, Catadioptric lithography system and method with reticle stage orthogonal to wafer stage.
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  9. Govil, Pradeep Kumar; Ivaldi, Jorge, Flexible piezoelectric chuck and method of using the same.
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  10. Travis, Edward O.; Shroff, Mehul D.; Smeltzer, Donald E.; Smith, Traci L., Method and apparatus for indicating directionality in integrated circuit manufacturing.
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  11. Travis, Edward O.; Shroff, Mehul D.; Smeltzer, Donald E.; Smith, Traci L., Method and apparatus for indicating directionality in integrated circuit manufacturing.
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  12. Govil, Pradeep Kumar; Tsacoyeanes, James, Method and system for selective linewidth optimization during a lithographic process.
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  13. Catey Eric B. ; Hult David ; Puerto Santiago del ; Roux Stephen, Removable cover for protecting a reticle, system including and method of using the same.
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  14. deBoer Wiebe B.,NLX ; Ozias Albert E., Rotatable substrate supporting mechanism with temperature sensing device for use in chemical vapor deposition equipment.
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  15. Fujii, Kenji; Asa, Fuminori; Hayama, Ryuichi; Komura, Tomoyuki, Substrate transfer apparatus and substrate transfer method.
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  16. Del Puerto, Santiago; Loopstra, Erik R.; Massar, Andrew; Kish, Duane P.; Alikhan, Abdullah; Olsen, Woodrow J.; Feroce, Jonathan H., System and method for using a two part cover and a box for protecting a reticle.
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